Wolf S. Silicon Processing for the VLSI Era. Vol.2. Process Integration

формат pdf
размер 44.19 МБ
добавлен 30 января 2011 г.

Sunset Beach, CA: Lattice Press, 1990. - 785 p. (на англ яз. ).
Книга известного американского специалиста проф. Стэнли Волфа является вторым томом широко известной серии из 4-х книг, охватывающей практически все аспекты технологии СБИС. Несмотря на то, что этот том написан в 1990 г., во многом книга не потеряла своей ценности и в настоящее время, в частности, из-за полноты охвата темы, а также ясного и точного стиля изложения.
Книга посвящена вопросам интеграции отдельных технологических процессов в производстве СБИС, причем все факторы, влияющие на интеграцию - конструктивные, технологические и экономические - рассматриваются в их совокупности.
В первой части книги рассматривается субинтеграция технологических процессов - формирование элементарных структур ИС. В этой части рассматривается изоляция элементов (диэлектрическая и p-n переходами), контакты металл-полупроводник и структуры многоуровневой металлизации. Вторая часть посвящена интеграции технологических процессов при формировании структуры интегральной схемы как целого. В этой части рассматриваются СБИС следующих типов - n-МОП, КМОП, биполярные и БиКМОП, микросхемы полупроводниковой памяти. В отдельной главе рассматриваются вопросы компьютерного моделирования технологических процессов.
Книга принадлежит к числу весьма рекомендуемых ("must have") для специалистов, работающих в полупроводниковой промышленности, для преподавателей, аспирантов и студентов старших курсов соответствующих специальностей.

Смотрите также

Basu S. (ed.). Crystalline Silicon - Properties and Uses

формат pdf
размер 29.25 МБ
добавлен 23 января 2012 г.

InTech, 2011. - 344 pages. The exciting world of crystalline silicon is the source of the spectacular advancement of discrete electronic devices and solar cells. The exploitation of ever changing properties of crystalline silicon with dimensional transformation may indicate more innovative silicon based technologies in near future. For example, the discovery of nanocrystalline silicon has largely overcome the obstacles of using silicon as optoele...

Garry S. May, Ph.D., Costas J. Spanos, Ph.D. Fundamentals of Semiconductor Manufacturing and Process Control

формат pdf
размер 4.97 МБ
добавлен 11 января 2012 г.

Contents. Introduction to Semiconductor Manufacturing. Technology Overview. Process Monitoring. Statistical Fundamentals. Yield Modeling. Statistical Process Control. Statistical Experimental Design. Process Modeling. Advanced Process Control. Process and Equipment Diagnosis. of the book places the manufacture of integrated circuits into its. historical context, as well as provides anoverviewof modern semiconductorman. ufacturing. n the Chapter 2...

Helbert J. Handbook of VLSI Microlitghography. Principles, Technology, and Applications

Справочник

формат pdf
размер 6.38 МБ
добавлен 30 ноября 2011 г.

Noyes Publications/William Andrew; 2nd edition, 2001. - 1022 p. This handbook gives readers a close look at the entire technology of printing very high resolution and high density integrated circuit (IC) patterns into thin resist coatings, including optical lithography, electron beam, ion beam, and x-ray lithography. The book's main theme is the special printing process needed to achieve volume high density IC chip production, especially in the...

Kasper Paul. Silicon Quantum Integrated Circuits. Silicon-Germanium Heterostructure Devices. 2005

формат pdf
размер 6.16 МБ
добавлен 21 декабря 2009 г.

Книга немецких специалистов на английском языке, посвящённая созданию и использованию Si/Ge гетероструктур в современной полупроводниковой электронике. Рассмотрены вопросы связанные с технологией получения Si/Ge структур (МЛЭ, ХОГФ), квантовая теория полупроводников, применения Si/Ge в гетеробиполярных транзисторах (HBT), гетерополевых транзисторах (HFET), оптоэлектронных приборах и в интегральных логических схемах (КМОП, БКМОП).

Oktyabrsky S., Ye P.D. (Eds.) Fundamentals of III-V Semiconductor MOSFETs

Статья

формат pdf
размер 12.24 МБ
добавлен 14 января 2012 г.

Сборник статей. Springer, 2010.- 445p. Fundamentals of III-V Semiconductor MOSFETs presents the fundamentals and current status of research of compound semiconductor metal-oxide-semiconductor field-effect transistors (MOSFETs) that are envisioned as a future replacement of silicon in digital circuits. The material covered begins with a review of specific properties of III-V semiconductors and available technologies making them attractive to MOSFE...

Tarui Y. VLSI Technology (Fundamentals and Aplications)

формат djvu
размер 7.6 МБ
добавлен 07 марта 2011 г.

Springer 1986 (Tokyo 1981) pp.450. VLSI – Very Lage Scale Integration – Технология больших интегральных схем. . VLSI Technology summarizes the main results of the research performed by the Japanese VLSI Technical Research Association. The studies concentrated on silicon as the major basis of modern semiconductor devices. The results presented are on microfabrication technology, the electron-beam concept, the required software, the pattern transfe...

Tung C.-H., Sheng G.T.T., Lu C.-Y. ULSI Semiconductor Technology Atlas

формат pdf
размер 26.26 МБ
добавлен 25 сентября 2011 г.

Wiley, 2003, 666 pages More than 1,100 TEM images illustrate the science of ULSI The natural outgrowth of VLSI (Very Large Scale Integration), Ultra Large Scale Integration (ULSI) refers to semiconductor chips with more than 10 million devices per chip. Written by three renowned pioneers in their field, ULSI Semiconductor Technology Atlas uses examples and TEM (Transmission Electron Microscopy) micrographs to explain and illustrate ULSI proce...

Wolf S. Silicon Processing for the VLSI Era. Vol. 3. The Submicron MOSFET

формат pdf
размер 36.58 МБ
добавлен 02 февраля 2011 г.

Sunset Beach, CA: Lattice Press, 1995. - 744 pp. (на англ яз. ) Книга представляет собой 3-й том известной серии из 4 книг, посвященной технологии СБИС. Настоящий том посвящен рассмотрению важнейшей для технологии современных СБИС области - МДП-транзисторам с субмикронной длиной канала. В книге рассматривается многосторонняя взаимосвязь физики, конструкции и технологии субмикронных транзисторных структур. Значительное внимание уделяется рассмотре...

Wolf S. Silicon Processing for the VLSI Era. Vol. 4. Deep Submicron Process Technology

формат pdf
размер 79.9 МБ
добавлен 02 февраля 2011 г.

Sunset Beach, CA: Lattice Press, 2002. - 826 pp. (на англ яз. ) Книга представляет собой 4-й (и последний на сегодняшний день) том широко известной серии из 4 книг, посвященной технологии СБИС. Настоящий том посвящен рассмотрению технологических нововведений, появившихся на рубеже тысячелетий и характерных для поколений СБИС с минимальным размером элемента 0,18 мкм и менее. Все эти направления активно развиваются и в настоящее время. К числу этих...

Wolf S., Tauber R.N. Silicon Processing for the VLSI Era. Vol. 1. Process Technology

формат pdf
размер 37.7 МБ
добавлен 01 февраля 2011 г.

Sunset Beach, CA: Lattice Press, 1986. - 684 pp. (на англ яз. ). Книга представляет собой первый том широко известной серии из 4-х книг, охватывающей практически все вопросы технологии СБИС. Несмотря на то, что книга написана в 1986 г., во многом она не потеряла своей ценности и в настоящее время. В книге удачно воплощено стремление осветить все аспекты технологии СБИС с единой точки зрения, при этом весь материал книги отличается высоким уровнем...