
в базе, вызванными эффектом Ирли, и характеризующее
обратную связь за счет диффузионных процессов.
Омическое сопротивление базы г'б зависит от геомет-
рии транзистора и для некоторых конфигураций можег
быть вычислено для малых плотностей тока следующим
образом:
для транзисторов с прямоугольным сечением
—J*.
>
—
3w
для транзисторов с круглым сечением
г'
б
=
Рб
.
Зш '
для сплавных транзисторов (рис. 4-1)
5
—
Рб
y$nw,
2WSD,
•In
tf«
1
Я
э
~2пш,
(4-75)
(4-76)
(4-77)
где первый член выражения представляет собой сопро-
тивление диска толщиной
хю\
под каплей эмипера, вто-
рой член—сопротивление коль-
ца толщиной w
2
и шириной
Ri<—RJ,
третий член — сопро-
тивление кольца полупроводни-
кового материала между краем
коллектора и внутренним кра-
ем кольцевой базы.
Сопротивление г"§ обязано
своим появлением тому факто-
ру, что при изменении U
K
на-
пряжение на эмиттере изменяет
свою величину не только вслед-
ствие наличия омического со-
противления базы г'б, но и
вследствие эффекта Ирли. Это может быть иллюстриро-
вано рис. 4-6, на котором показана зависимость концен-
трации дырок в базе бездрейфового р-п-р транзистора.
При значении напряжения коллектора U'
K
ширина базы
равняется w'.
Полагаем ток эмиттера постоянным и примерно раз-
ным /"„, т. е. а«1. При этом 1радиент концентрации ды-
рок постоянен и распределение дырок представлено пря-
мой
р'бх№>'-
При изменении напряжения коллектора до
U"
K
ширина базы изменится до w", но градиент концен-
102
Рис.
4-G. Изменение концен
грации дырок в области ба
зы с эффектом Ирли.