Месяц Г.А. Импульсная энергетика и электроника

Подождите немного. Документ загружается.

Глава 5. Разряд

вакууме

где V - напряжение на искровом промежутке, которое изменяется во времени, V -

скорость расширения плазмы при катодных микровзрывах, постоянная величина А

и функция Р зависят от конфигурации катода и анода, й - длина промежутка ка-

тод-анод. Если ток измерять в амперах, а напряжение в вольтах, то при

VI < Ш2

для плоского анода и острийного катода А =

37- Ю

-6

= У1/с1\

а для плоских като-

да и анода А = 44-Ю"

, Р =

(уИ<1)

Более строгий расчет вольтамперной характеристики искры можно сделать, ис-

пользуя метод, предложенный в [1]. Внешнее электрическое поле при этом счита-

ется постоянным. Зависимости относительных величин тока и времени

Т(Т)

при-

ведены на рис. 10, а. Здесь I = а Т =

VI!<1.

Эти зависимости получены при

различных величинах

где К - сопротивление разрядного контура, равное волновому сопротивлению ли-

нии, по которой поступает импульс, п - число одновременно функционирующих

центров ВЭЭ. Если относительная длительность роста тока искры Т

определяет-

ся как обычно между уровнями 0,1-Ю,9 от амплитуды тока, то

(5.35)

Зависимость Т

(В) приведена на рис. 10, б.

Проанализируем полученные результаты.

1) Вид зависимости 1(Т) имеет хорошее совпадение с видом осциллограмм

тока пробоя (см. рис. 9).

2) Время роста тока искры от нуля до амплитудного значения не зависит от па-

раметров внешней цепи, прямо пропорционально длине промежутка и обратно

пропорционально скорости движения эмитирующего фронта плазмы.

3) Время коммутации Т

(или *

) измеряется между уровнями 0,9-Ю, 1 от амп-

литудного значения тока (или напряжения), поэтому изменение Т

(или /

) связано

лишь с деформацией кривой /(7).

4) Формулы (34) и (35) предсказывают слабую зависимость времени от и,

сопротивления К и напряжения С/

» причем зависимость Т

(В) допускает как не-

большой рост, так и снижение времени с ростом напряжения Щ.

Рис. 5.10. Зависимости рассчитанного тока от времени в относительных единицах (а) и от-

носительного времени коммутации от параметра В (б)

^ 5.5

Искра

вакууме

Как мы уже говорили, при микровзрывах на катоде образуется катодная плазма.

Она содержит одно-, двух-, трех- и более зарядные ионы (А1, Си, Мо и др.), имеет

температуру 4+5 эВ и крайне неоднородное распределение в пространстве. Непо-

средственно в катодной области ее концентрация составляет 10

см~

и более, а за-

тем спадает обратно пропорционально квадрату расстояния [1,6]. Скорости разле-

та плазмы для шести различных металлов приведены в таблице 5.

Таблица 5.5.

Скорость разлета катодной плазмы

Металл

А1

Си РЬ Мо N1

и,

см/с

1,8 1,7

1,0 1,8 1,4

1,8

Это скорость движения передних слоев плазмы, измеренная по времени перемыка-

ния промежутка. Массовая скорость будет несколько ниже, и определяется она по

механическому воздействию плазменной струи на поверхность катода.

Плазма оказывает давление порядка 10

Па на катод в зоне микровзрыва. Одна-

ко это давление приходится на жидкую фазу металла. Дело в том, что в течение

функционирования эктона за счет джоулева разогрева поверхности на катоде обра-

зуется ванна жидкого металла с приблизительным радиусом

(5.36)

где и - время функционирования эктона, а - температуропроводность. Обычно

величина г

составляет величину порядка 10"

см (Си, А1, Мо и др.) [1, 6]. В ре-

зультате такого кратковременного (1

« 10~

с) импульсного давления жидкий ме-

талл будет разбрызгиваться, образуя струи и капли, скорость которых составляет

см/с. О том, что это так, свидетельствует рис. 11 с фотографией кратера

на катоде, образованного током -100 А в течение 20 не. На снимке видны струи

Рис.

5.11.

Снимок поверхности плоского медного катода после однократного включения то-

ка при длительности импульса

= 20 не

6. Месяц Г.А.

Глава 5. Разряд

вакууме

и капли металла. Количество капель металла для медного катода составляет 2-10

Юг

а наиболее вероятный диаметр капель -(0,1-Ю,2) мкм [1].

Итак, на катоде образуются жидкая и плазменная фазы металла. Поэтому унос

массы с катода (или эрозия катода) имеет место как в жидкой, так и в плазменной

формах. При острийных конических катодах с малым утлом конуса эрозия проис-

ходит в основном в жидкометаллической фазе. При линейном росте тока искры

(/=Кг) удельный унос в жидкой фазе составляет [б]:

Уж = — , (5.37)

3^0(3 к

У<

где к

- удельное действие тока для нагрева металла до плавления (таблица 1),

0 - угол конуса, /

- длительность тока искры, р - плотность массы катода. Если

напряжение на искре V меняется незначительно, то крутизна роста тока для ост-

рийного катода составит

ЪП

АТ

= 3740^———, (5.38)

где

- скорость разлета катодной плазмы,

с1

- длина промежутка. Оценим у

для

меди при К

—

2-10

А/с, /„ = 4-10"

с, 0 = 10°, к

« 10

с/см

(Си). При этом

= 5-10"

г/Кл. На рис. 12 приведены экспериментальные зависимости у

от ут-

ла конуса для Мо и

[6].

Как видно из рис. 12, с ростом утла 0 удельный унос массы уменьшается. При

больших углах начинает преобладать унос массы в плазменной фазе. Обозначим

удельный унос в плазменной (ионной) фазе через у,-. Для оценки этойвеличины

используем формулу (32) для простейшей эктонной теории: у,- =

|р(а/к)

1/2

Вос-

пользуемся таблицами 3 и 4 для меди и получим для твердой меди у, « 7-10"

г/Кл,

а для жидкой 6-10"

г/Кл.

6 [град]

Рис. 5.12. Экспериментальные зависимости унесенной с острия массы металла от угла ко-

нуса острия 0 при

= 20 кВ, (1=2 мм. 7, 3 -

Мо;

2,4-Щ /„, не: 7,2 - 5; 3,4- 20

5.5 Искра

вакууме

А = 1,5

02=1,5

(б)

А = 1,5

02=1,5

О, = 11

А = 5,6

/>,=22

02=11

Рис. 5.13. Снимки свечения катодной и анодной плазмы (экспозиция 3 не) при разряде в

промежутке

(с1

= 0,35 мм). Напряжение

= 35 кВ для медных электродов. Фронт импуль-

са -

не. Д и

значения диафрагм объективов фотоаппаратов, а - время 4 не, тока нет

(это стадия пробоя); б - время 8 не, ток 20 А; в- время 22 не, ток 150 А; г - время 34 не,

ток 230 А (дуговая стадия)

В таблице 6 приведены экспериментальные данные по удельному уносу метал-

ла в плазменной фазе для четырех металлов [6].

Таблица 5.6.

Удельный унос массы металла катода

искре

Металл XV Аи А§ Си

Важным является вопрос, каков механизм появления новых эктонов вслед за

первичным. Ведь ток в искре протекает непрерывно. Это происходит за счет взры-

ва струй жидкого металла или близлежащих микровыступов при их взаимодейст-

вии с плазмой от предшествующих эктонов. О том, что такие струи жидкого ме-

талла существуют, свидетельствует рис. 11, на котором показан катодный кратер.

Существование же плазмы при катодных микровзрывах доказывается фотогра-

фиями свечения в вакуумном промежутке, полученными при экспозициях 3 не

(рис. 13). Этот эффект состоит в следующем. Если катодный выступ (или струя

жидкого металла) находятся в плазме, то плотность тока, протекающего в основа-

нии выступа, будет в Ру раз больше, чем на его поверхности. Как показано выше,

= $/5о, где 5 - общая площадь поверхности выступа, 5

- сечение основания вы-

ступа на поверхности катода. Появление эктонов непосредственно в эмиссионном

центре обусловлено взаимодействием струи жидкого металла с плотной плазмой.

Появление же эктонов рядом с центром ВЭЭ объясняется взаимодействием плот-

ной плазмы с микровыступами поверхности катода в этой области. Напомним, что

б*

У/, 10~

г/ЬСл

16 9,2

4,2

4,0

Глава 5. Разряд

вакууме

критерий появления эктонов в течение Ю

-9

с при воздействии плотной плазмы на

катодный микровыступ записывается согласно формуле (14) п

{

> 10

(3у

см

-2

-1

Теперь возникает вопрос, за счет чего происходит усиление плотности тока.

Непосредственно в зоне микровзрыва ток ионов на катод составляет не более

~10

А/см

. Для того чтобы взрыв жидкометаллической струи произошел за Ю

-9

с,

необходимо иметь плотность тока 10

А/см

, т.е. должно быть усиление

Ру

> 10

Если струя имеет форму конуса, то Ру « 2/0, где 0 - угол конуса. Для катодного

пятна дуги на медном катоде 0 « 0,5 [6], поэтому

Ру

« 4, т.е. коэффициент усиления

плотности тока слишком мал. Если струя имеет форму цилиндра, то

Ру

« 2А/г, где

и г - соответственно высота струи и радиус ее вершины. Величина Ру совпадает с

коэффициентом усиления электрического поля |3д, которая согласно [1] не превы-

шает 10*20 при длительности импульса 5*50 не. Следовательно, ни при коничес-

кой, ни при цилиндрической форме струи получить

Ру

> 10

невозможно.

Значительно большее усиление плотности тока можно получить, если на вер-

шине конуса будет сфера. Это имеет место в период отрыва капли от струи жидко-

го металла. В этом случае (рис. 14) плотность тока в перетяжке капля-конус уве-

личится в р

= 4г

/г

раз, где г

- радиус капли, г - радиус перетяжки. Процесс

отрыва капли будет длиться время порядка

= г

/у

, где и

- скорость движения

капли. Так как У

~ 10

см/с, то время отрыва будет составлять ~10~

с. Чтобы в

течение времени ( произошел взрыв перетяжки, плотность тока должна составлять:

1/2

к У

Исходя из того, что ток с катода в искровой стадии поступает в виде отдельных

порций - эктонов, определим количество эктонов и закономерность их поступления

Рис. 5.14. Струя жидкого металла, на которой образуется эктон: г

- радиус зоны расплав-

ленного металла, г

- длина прогрева эктонной зоны, р

- давление плазмы на жидкий ме-

талл, р

- давление плазмы к моменту окончания функционирования эктона, I - ток

^ 5.5

Искра

вакууме

в промежуток. Выше мы предположили, что каждый эктонный цикл сопровожда-

ется одной каплей жидкого металла с катода. Это имеет место при не слишком

больших скоростях роста тока

сШЖ

< 10

А/с. В этом случае заряд электронов в эк-

тоне будет равен «1/у

, где у

- число капель на единицу заряда. Общее число

эктонов в искровой стадии определится из соотношения:

\1<И

N0=^ = Ук Ъл, (5.40)

Яе I

где /

- длительность искровой стадии. Если рост тока в искре во времени аппрокси-

мировать линейной функцией, то общий заряд в течение искровой фазы составит

К'*» <

)

где /

- амплитуда тока, которая соответствует току вакуумной дуги. Так как

~ ШУ, ТО

(542)

Чш IV

Если /

= 100 А, й = 1 см, у

= 210

Юг

(для меди) [1],

» 2-Ю

см/с, то из (42)

следует, что число эктонов за время искровой стадии составит Щ « 10

штук.

Есть еще один очень эффективный способ инициирования вторичных эктонов,

когда катодная плазма воздействует на прилегающую катодную поверхность, кото-

рая имеет диэлектрические пленки и включения. Ионный ток плазмы заряжает ди-

электрик, который затем пробивается. Создаваемая при этом плазма и способству-

ет образованию нового эктона.

Пучок электронов, который образуется на катоде за счет ВЭЭ, ускоряется и попа-

дая на анод, разогревает его. Этот разогрев приводит к образованию анодной плаз-

мы, жидкого металла и его паров, которые появляются обычно с некоторым сдвигом

во времени по отношению к катодной плазме. Скорость этой плазмы может дости-

гать 10

см/с [1]. Если на катоде создаются электронные пучки, расположенные близ-

ко друг к другу, то на аноде наблюдается электростатическое взаимодействие этих

пучков. Это приводит к зоне повышенной плотности тока и соответственно усиле-

нию эрозии анода («эффект мазков»). Нагрев анода приводит к уносу его массы на

катод. Для меди удельный перенос составляет ~10~

г/Кл. Воздействие электронного

потока на анод в искровой стадии пробоя приводит не только к эрозии анода и обра-

зованию анодного факела, но и к появлению мощной вспышки рентгеновского излу-

чения. Данные о моменте появления, форме и длительности импульса рентгеновско-

го излучения при вакуумном пробое приведены в работе [1]. На основе этих данных

удалось достоверно объяснить основные закономерности генерирования импульсов

рентгеновского излучения в трубках диодного типа. Например, доза импульса рент-

геновского излучения В оказывается пропорциональной длине промежутка а?, т.е.

В ~ д. Длительность рентгеновского импульса равна времени движения катодной

плазмы до анода и, кроме того, /

<1.

Подробнее о работе импульсных рентгенов-

ских трубок с использованием вакуумной искры и взрывной эмиссии электронов бу-

дет сказано ниже (см. главу 28).

Глава 5. Разряд

вакууме

§ 5.6 Разряд по поверхности диэлектрика в вакууме

5.6.1 Процессы в катодной области

Изучение разряда по поверхности диэлектрика в вакууме играет важную роль,

так как диэлектрики широко используются в высоковольтных вакуумных устрой-

ствах. Одно из основных их применений - это электрические изоляторы. Искра на

диэлектрике в вакууме может служить источником ультрафиолетового излучения,

который, в частности, может применяться для накачки газовых лазеров, а также в

импульсной коммутационной аппаратуре. Например, такие разрядники удобны для

обострения фронта импульса, а также используются в триггерных узлах управляе-

мых вакуумных коммутаторов. Особенно важно использование искрового разряда

по диэлектрику в вакууме в металлодиэлектрических катодах для получения мощ-

ных пучков электронов и ионов. В этом разделе мы будем интересоваться в первую

очередь импульсным разрядом в соответствии с направленностью монографии. Та-

кой разряд иногда называют скользящим.

Сравнивая феноменологию скользящего разряда с разрядом между металличе-

скими электродами в вакууме, можно увидеть, что внесение диэлектрика в вакуум-

ный зазор приводит к резкому снижению электрической прочности промежутка.

Здесь мы сталкиваемся с целым рядом явлений, которые отсутствовали в вакуум-

ном промежутке. К числу их следует отнести усиление поля на катоде из-за нали-

чия микрозазоров между металлом и диэлектриком, зарядку поверхности диэлект-

рика в результате бомбардировки электронами, а также появление газовой среды в

разрядном промежутке в результате десорбции газа с поверхности изолятора и его

разрушения.

Наличие диэлектрика в вакуумном промежутке приводит к усилению электри-

ческого поля в области контакта катод-диэлектрик за счет микрозазоров. В [12] ис-

следованы процессы, происходящие в контакте металл-диэлектрик при наложении

электрического поля. Электроды и изолятор помещались в магнитное поле, пер-

пендикулярное к электрическому, с целью обеспечить отвод электронов из разряд-

ного промежутка. Эти электроны «сбрасывались» на заземленные пластины, по-

крытые люминофором.

Величина напряжения между электродами, при которой возникало свечение

люминофора, является критерием для оценки интенсивности контактных явлений.

С ростом диэлектрической проницаемости увеличивается выход электронов из

контакта. Это приводит к тому, что импульсное напряжение, при котором появля-

ется свечение у катода, снижается почти в семь раз при увеличении диэлектриче-

ской проницаемости диэлектрика 8 от 6,6 (стеатит) до 1800 (титанат бария).

Повышение напряженности электрического поля в области контакта за счет из-

менения формы катода от плоскости к острию также приводит к усилению элек-

тронного тока. Изменение материала катода не оказывает существенного влияния

на выход электронов из контакта.

Наличие повышенной напряженности поля в области соединения катода с ди-

электриком объясняется тем, что поверхности как диэлектрика, так и катода не мо-

гут быть идеально гладкими. Они соприкасаются друг с другом лишь выступами

поверхностей (рис. 15). Для приблизительной оценки напряженности электриче-

ского поля в области контакта можно идеализировать его геометрию. Обозначим

§5.6

Разряд по поверхности диэлектрика

вакууме

через А усредненную ширину микрозазора в контакте катод-диэлектрик, а через

с1 - толщину диэлектрика. Будем считать контакт в анодной области идеальным,

т.е. на аноде А = 0. Если допустить, что длина зазора намного меньше, чем его ши-

рина, то можно считать поле в нем однородным везде, кроме его краев. Напряжен-

ность поля в зазоре может быть найдена как напряженность поля в промежутке,

последовательно соединенном с диэлектриком. Напряженность электрического по-

ля в катодном зазоре можно записать так:

' л ^

1 + —

в А

-1

(5.43)

где Е

- напряженность электрического поля в катодной области. Из формулы (43)

можно сделать два вывода. Во-первых, если

сИгА

то

= (5.44)

А А

где Е-1ЛЗ, - среднее электрическое поле в промежутке. Таким образом, элект-

рическое поле в этом случае в зазоре усиливается в

с11А

раз. Этот случай соответ-

ствует большой величине диэлектрической проницаемости диэлектрика. Во-вто-

рых, если г//еА »1, то

& &Е,

(5.45)

т.е. электрическое поле увеличивается в 8 раз. Это соответствует случаю диэлек-

трика со сравнительно малой величиной 8.

Однако поле на микроостриях катода будет еще выше за счет геометрического

усиления. Если высота острий

А,

а радиус кончика катодного острия г

, то при И< А

к0

* — = (5.46)

где |3

- коэффициент усиления электрического поля. В частности, для случая на

рис. 15 на кончике острия «б» будет именно такое усиление поля. Коэффициент

рд» 10-5-100. Следовательно, полное усиление поля при больших 8 составляет вели-

чину порядка МАг

. Если

= 1 см, А = Ю

-3

см,

= Ю

-4

см, г

= Ю

-5

см, а нап-

ряжение 1/= 10

В, то электрическое поле на поверхности острий (например, острия

«б» на рис. 15) составит 10

В/см. Такое острие взрывается за время ~10~

с (рис. 2).

Рис. 5.15. Схематическая форма контакта диэлектрика с катодом: г

- радиус закругления

наиболее острого катодного выступа,

- усредненная ширина катодного зазора,

с!

- толщи-

на диэлектрика, а - контактирующее острие, б - острие внутри катодного зазора

Глава 5. Разряд

вакууме

При этом появляются катодная плазма, взрывная электронная эмиссия и катодное

пятно. Вывод о ведущей роли катода в разряде подтверждается многими данными,

например [12]. Ток электронов с катода растет с ростом напряжения

17,

шерохова-

тости катода (т.е. |3д) и диэлектрической проницаемости 8.

Все эти факты говорят о ведущей роли катода в инициировании электрического

разряда по диэлектрику в вакууме.

Кроме автоэмиссионного взрыва, существует вторая возможность появления

катодного микровзрыва. Она обусловлена скользящим микроразрядом по поверх-

ности диэлектрика с острия «а» (рис. 15), которое контактирует с диэлектриком.

В таком разряде плазма будет двигаться с острия «а», создавая ток смещения. Этот

ток замыкается через острие, разогревает его, и острие взрывается. Вероятность

такого взрыва тем больше, чем выше 8 диэлектрика. Подробнее об этом мы будем

говорить ниже в главе 24 при рассмотрении работы металлодиэлектриче ских ка-

тодов. Место касания микроострия с диэлектриком называется тройной точкой.

В ней соприкасаются металл катода, диэлектрик и изолирующая среда. В нашем

случае это металл-диэлектрик-вакуум. Как будет показано ниже, процессы в трой-

ных точках играют фундаментальную роль в физике скользящих разрядов, в част-

ности в работе металлодиэлектрических катодов.

Важным аргументом в пользу микровзрывов на катоде являются спектры излуче-

ния начальных стадий разряда. В [13] исследовались титанат бария (е = 1800) и дву-

окись титана (е = 80). При использовании двуокиси титана свечение в катодной об-

ласти было недостаточным, чтобы зарегистрировать его спектр в первые наносекун-

ды. В случае титаната бария это оказалось возможно. Авторы [13] ставили перед

собой следующую задачу: с помощью наблюдения последовательности появления

линий материалов электрода и диэлектрика в спектре свечения разряда установить

причинно-следственную связь между взрывом микровыступов на катоде и испарени-

ем материала диэлектрика. Разряд на диэлектрике возникает начиная с некоторого

порогового напряжения. Величина этого напряжения растет с уменьшением диэлект-

рической проницаемости, увеличением толщины диэлектрика и укорочением дли-

тельности импульса. При амплитуде импульсов, близкой к пороговой, наблюдается

запаздывание разряда.

В спектре свечения разряда при напряжениях, близких к пороговым, регистри-

руются линии материала острия (^1, И), а также линии нейтрального (Ва1),

однократно ионизованного бария (ВаП) и титана (Т11), входящих в состав диэлект-

рика. С ростом напряжения разряда в импульсе интенсивность этих линий растет и

появляются новые линии, принадлежащие керамике. С сокращением длительности

импульса до 2 не разрушение острия диэлектрика наступает при более высоких

напряжениях. Однако спектральный состав свечения и последовательность появ-

ления линий при этом остаются прежними. В таблице 7 приведены данные об от-

носительной интенсивности

наиболее ярких спектральных линий, наблюдаемых

в разряде, а также указаны вероятности появления каждой линии в серии из десяти

разрядов (а). Из этих данных следует, что линии материала острия и диэлектрика

появляются в спектре свечения разряда практически одновременно. Следует

учесть, что спектральная чувствительность установки, используемой в экспери-

менте, в области линий XVI (4302 А) приблизительно в два раза ниже, чем для ос-

тальных зарегистрированных линий. Вследствие этого частота появления линий

XVI в каждой из приведенных серий оказывается заниженной.

§5.6

Разряд по поверхности диэлектрика

вакууме

Таблица 5.7.

Вероятность появления спектральных линий а и их интенсивность 3 при раз-

ной длительности импульсов напряжения

Длина волны

К А

/„ = 8

не

(

= 2

не

Элемент

Длина волны

К А

11= 0,8

кВ

13= 0,7

кВ

17= 1,63

кВ

13= 1,5

кВ

Длина волны

К А

3 а

Ва1

5535

31,7

0,75 14,00 0,75

52,6

0,57

3,70 0,5

Ва

4934

22,4

0,75

9,20 0,375 15,4

0,75 4,34 0,5

ТП

4981 19,6

0,30

1,97 0,50

18,4

0,63

4,56 0,5

XVI 4302

9,6

0,80 5,50 0,80 7,3

0,25 3,50 0,3

Поскольку нам известны качественный состав разрядной плазмы на диэлект-

рике и моменты появления в спектре свечения разряда линий материала острия и

диэлектрика, оказывается возможным определить характерные времена процессов,

приводящих к взрывообразному разрушению острия и диэлектрика. Имея эту ин-

формацию, можно обсудить вопрос о природе процессов, приводящих к появле-

нию разряда по поверхности диэлектрика в вакууме. При напряжении, соответст-

вующем порогу возникновения разряда

(13

« 500 В), средняя напряженность поля в

области контакта Е

ср

« 9-10

В/см. Согласно графику на рис. 2 время запаздывания

до взрыва микроострий на катоде при этой напряженности с учетом коэффициента

усиления электрического поля составляет /

« 10"

с.

Близкое значение времени запаздывания взрывообразного испарения катод-

ных микроострий можно получить, если принять, что размеры этих острий

г « Ю^-ЯО

-5

см. Тогда локальная напряженность поля на кончике острия будет

Е »(1-г9)'10

В/см. При такой напряженности плотность тока автоэмиссии с мик-

роострия составит ] « 10

А/см

. Взрыв и появление плазмы на катоде при этой

плотности тока произойдет через /

« 10~

с.

Время, необходимое для разрушения диэлектрика, можно грубо оценить, поло-

жив, что для его испарения необходима энергия, совпадающая с энергией субли-

мации. Эта энергия переносится потоком электронов с плотностью 10

А/см

имеющих, согласно [14], малую энергию Ю^Ю

эВ. В данном случае время запаз-

дывания разрушения диэлектрика не превышает -Ю

-10

с [13], т.е. взрыв эмити-

рующего острия и разрушение диэлектрика происходят практически одновремен-

но, что и подтверждается экспериментальными данными о времени запаздывания

разряда, динамике появления свечения на диэлектрике и его спектральном составе.

Отметим, что возникновение взрывной эмиссии электронов на катоде и разви-

тие вторичного процесса - разрушения диэлектрика, еще не означает, что пробой

возникает со стопроцентной вероятностью. Подтверждением служит факт самопо-

гашения микроразрядов. Наступление перекрытия будет определяться, во-первых,

энергией самого акта инициирования (амплитудой тока и длительностью процесса)

и, во-вторых, условиями «подхвата» этого процесса на диэлектрике (интенсивно-

стью выделения десорбируемого газа и продуктов разложения диэлектрика). По-

этому процесс тренировки изолятора приложенным напряжением следует рассмат-

ривать как совокупность ряда явлений: уничтожение микроострий на катоде, на

которых напряженность поля наиболее высока, частичное обезгаживание диэлек-

трика и т.д.