Серия "Технология полупроводниковых приборов и изделий
микроэлектроники". В 10 кн.: Учебник для ПТУ. Кн.
6. - М.: Высшая школа, 1989. - 96 с.: ил.
В книге описаны технологические процессы нанесения тонких пленок в вакууме в производстве полупроводниковых приборов и ИМС: термическое испарение и ионное распыление (в том числе диодное и магнетронное распыление, высокочастотный и реактивный методы ионного распыления). Рассмотрены основы построения вакуумных систем и основные типы установок вакуумного напыления. Рассмотрены методы контроля параметров процессов и качества получаемых слоев, вопросы электровакуумной гигиены и техники безопасности.
6. - М.: Высшая школа, 1989. - 96 с.: ил.
В книге описаны технологические процессы нанесения тонких пленок в вакууме в производстве полупроводниковых приборов и ИМС: термическое испарение и ионное распыление (в том числе диодное и магнетронное распыление, высокочастотный и реактивный методы ионного распыления). Рассмотрены основы построения вакуумных систем и основные типы установок вакуумного напыления. Рассмотрены методы контроля параметров процессов и качества получаемых слоев, вопросы электровакуумной гигиены и техники безопасности.