Процесс собственно кристаллизации вещества можно разделить на этапы: адсорбция
частицы поверхностью, миграция ее вдоль поверхности, внедрение в кристаллическую
решетку. Интенсивность этого процесса J
кр
, кг/(м
2
Чс), обычно описывается уравнением
химической реакции первой степени
(11.25)
где К
p
- константа скорости реакции, м/с; С
0
- растворимость вещества, кг/м
3
.
В стационарном режиме J
д
= J
кр
= J. При этом условии из (11.24) и (11.25) исключаем
величину С
i
, в результате получаем формулу для расчета скорости роста кристалла
(11.26)
где К
кр
- коэффициент скорости кристаллизации, м/с,
(11.27)
При больших пересыщениях (С>>С
0
) скорость собственно кристаллизации высока и
лимитирующей стадией становится диффузия вещества к поверхности кристалла.
Доставка вещества к кристаллу ограничивает скорость его роста и при высоких
температурах, так как с ростом температуры К
p
увеличивается (для водных растворов
солей и некоторых веществ органического происхождения диффузия контролирует рост
кристаллов при температуре выше 45-50°С).
С уменьшением пересыщения возрастает роль процесса собственно кристаллизации.
Внутритрубные отложения различаются своей структурой и химическим составом.
Структура отложений и их количество зависят от определяющих при данных
условиях процессов (механизмов) доставки примеси, осаждения и закрепления ее на
поверхности трубы.
В общем случае отложения примесей разделяются на два слоя: верхний слой
(наружный,эпитаксический) - рыхлый, слабо сцепленный с нижним слоем, легко
снимается при механическом воздействии; состоит из хаотично расположенных
кристаллов размером 1-6 мкм и из конгломератов округлых частиц размером в десятые
доли микрона; поры пронизывают весь слой в разных направлениях; нижний слой
(внутренний, топотактический) прочно сцеплен с поверхностью металла, состоит из
сросшихся кристаллов размером 1-2 мкм, плотный с малым количеством пор.
Соотношение удельных количеств отложений в наружном gн и внутреннем gвн
слоях зависит от их общего количества g (рис. 11.19). Линейный характер этой
зависимости говорит о том, что продолжительность формирования отложений не влияет
на закономерность распределения примеси между слоями.