Известно, что чем выше структурное совершенство, однородность
и гомогенность получаемых материалов (т.е., чем меньше содержится
в них неконтролируемых примесей или структурных дефектов), тем
лучше их механические и электрофизические свойства. В связи с этим
решение задачи максимально возможного повышения чистоты мате-
риала и уменьшения структурной неоднородности представляет инте-
рес не только для профессиональных материаловедов, но и для спе-
циалистов в области электроники, микро- и наноэлектроники, нано-
технологии, космических технологий, судостроения, авиации, меди-
цины и многих других областей человеческой деятельности.
Однако для получения наноразмерных и наноструктурных пле-
нок особую важность имеет даже не столько решение проблем чисто-
ты или структурного совершенства материалов, сколько возможность
создания наноразмерного изображения на поверхности наноразмер-
ной пленки. Для микроэлектроники структурирование состояло в соз-
дании изображения на поверхности пленки и последующем переносе
рисунка на структуру пленки (удаление материала). Для нанотехноло-
гии единственный путь структурирования – создание пленок, состоя-
щих из прецизионно-локализованных групп атомов и, в идеале, из от-
дельных строго и упорядоченно-локализованных атомов.
В настоящее время единственный метод, с помощью которого уда-
лось добиться подобного результата, – применение туннельно-зондовых
технологий. Прежде всего, это туннельно-зондовый массоперенос. Про-
цесс осуществляется в сканирующем туннельном микроскопе (или
аналогичном устройстве) и заключается в создании в туннельном про-
межутке между иглой-зондом и
подложкой условий для эмиссии от-
дельных атомов с поверхности зонда. Возможна также реализация
осаждений атомов или молекул из объема окружающей среды под
воздействием туннельного тока. Конкурентных методов у туннельно-
зондовых технологий для создания наноразмерных структур пока не
имеется и в ближайшее время не предвидится.
Однако туннельно-зондовые методы не имеют фактического
зна-
чения ни в настоящее время, ни в сколь угодно далекой перспективе,
так как являются методами индивидуальной обработки, нанотехноло-
гическим аналогом электронной литографии с помощью остро сфоку-
сированного пучка электронов. Однако то, что допустимо для элек-
6