1.2.7. Характеристики поверхности раздела
в никелевых композиционных покрытиях
с наночастицами оксидной керамики
В работе [29] установили, что способ соосаждения наноразмер-
ных частиц при гальванопокрытии позволяет получать новые функ-
циональные материалы со специальными свойствами для создания де-
шевых микроприборов с повышенными характеристиками. С помо-
щью обычного никелевого электролита Ватта проводили осаждение
частиц Al
2
O
3
и TiO
2
диаметром 10 – 30 нм. Получили серию компози-
ционных материалов никель – нанокерамика необычной структуры:
от нанометровых покрытий из нанометровых осажденных частиц до
микрометровых покрытий из осажденных агломерированных частиц.
Рентгеновской дифракцией исследовали влияние частиц различных
форм и размеров на кристаллизацию, остаточные напряжения и тек-
стуру осажденных никелевых покрытий. Снижение коррозионной ста-
бильности показывало на прохождение реакций вдоль поверхности раз-
дела никель/частица оксида.
1.2.8. Диэлектрические свойства тонких пленок
Ba(Sn
x
Ti
1-x
)O
3
, полученных золь-гель способом
В университете Tjngji (Китай) [30] сегнетоэлектрические тонкие
пленки Ba(Sn
x
Ti
1-x
)O
3
(BTS) получали осаждением, используя золь-гель
способ, на подложках Si с покрытием LaNiO
3
. В зависимости от соста-
ва пленка показала предпочтительную ориентацию в (100)-направлении.
С увеличением содержания Sn размер зерен снижался, а микрострук-
тура пленки становилась плотнее. Снижение размера зерен с увеличе-
нием содержания Sn было обусловлено снижением скорости роста зе-
рен за счет более медленно диффундирующего иона Sn
4+
, у которого
ионный радиус больше, чем у Ti
4+
. Температура сегнетоэлектрического
фазового перехода тонких пленок BTS с (a)х = 0, (b)х = 0,05, (c)х = 0,1
и (d)х = 0,15 составляла соответственно 150, 45, 28 и 20 °С. Самое вы-
сокое значение K (показатель качества, определяемый как K = настраи-
ваемость/tanδ = [ε(0) – ε(E)] / [ε(E) / tanδ] для тонких пленок получили
при х = 0,1, хотя настраиваемость была наивысшей при х = 0,1, что
приводило к снижению величины K. На рис. 1.87 и 1.88 приведены ре-
зультаты XRD и зависимость постоянной решетки от содержания Sn.
68