Реферат - Методы получения тонких пленок

Реферат

формат doc
размер 25.83 КБ
добавлен 25 апреля 2011 г.

Рассмотрены основные методы получения тонких пленок:
физические методы осаждения:
термическое испарение за счет резистивного нагрева; электронно-лучевое испарение; лазерное испарение; ионно-лучевое распыление; катодное распыление; магнетронное распыление и
химические методы осаждения:
осаждение из газовой фазы; метод распылительного пиролиза; жидкофазная эпитаксия; электролиз; золь – гель метод.
18с.

Смотрите также

Берлин Е.В., Двинин С.А., Сейдман Л.А. Вакуумная технология и оборудование для нанесения и травления тонких пленок

формат djvu
размер 1.44 МБ
добавлен 01 марта 2010 г.

М: Техносфера, 2007. - 176 с. В книге обобщено современное состояние одной из отраслей производства изделий электронной техники: вакуумной технологии нанесения и травления тонких пленок. Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок, плазмохимических установок для травления тонких пленок и технологических особенностей их использования. Описаны математические модели, способы управления и примеры использования реактивного м...

Виноградов М.И., Маишев Ю.П. Вакуумные процессы и оборудование ионно - и электронно-лучевой технологии

формат djvu
размер 1 МБ
добавлен 02 марта 2011 г.

М.: Машиностроение, 1989. - 56 с. Рассмотрено применение электронных пучков в электронно- литографичес ких установках (ЭЛУ), используемых в технологии производства твердотельных электронных прибоpов. Описано устройство и принцип действия, приведе ны основные технические параметры ЭЛУ и дана их классификация. Описано оборудование ионно -лучевой обработки и eгo основные элементы. Рассмотрены технологические процессы, в которых используются ионно -л...

Данилин Б.С. Вакуумное нанесение тонких пленок

формат djvu
размер 4.63 МБ
добавлен 01 марта 2010 г.

М.: Энергия , 1967. - 312 стр. с илл. В книге рассматриваются способы получения и обработки, а также методы измерения скорости напыления и толщины тонкопленочных слоев и основные области применения тонких пленок. Излагаются требования к вакууму и составу остаточной среды при термическом испарении и катодном распылении и описываются современные средства получения и измерения вакуума, а также оборудование и аппаратура, используемые при получении т...

Данилин Б.С. Вакуумные технологические процессы и оборудование микроэлектроники

формат pdf
размер 3.18 МБ
добавлен 13 января 2011 г.

М.: Машиностроение, 1987. – 72 с.: ил. Под ред. В. К. Сырчина. В брошюре кратко рассмотрены вакуумные процессы в химически активной среде (плазмохимическое осаждение пленок при пониженном давлении и вакуумно-плазменное травление микроструктур). Дан анализ влияния различных факторов на параметры процессов осаждения и травления. Сформулированы требования к вакуумным насосам, используемым для откачки химически активных газов; рассмотрены и сопоставл...

Данилин Б.С. Вакуумные технологические процессы и оборудование микроэлектроники

формат djvu
размер 1005.12 КБ
добавлен 01 марта 2010 г.

М.: Машиностроение, 1987. 72 с. В брошюре кратко рассмотрены вакуумные процессы в химически активной среде (плазмохимическое осаждение пленок при пониженном давлении и вакуумно-плазменное травление микроструктур). Дан анализ влияния различных факторов на параметры процессов осаждения и травления. Сформулированы требования к вакуумным насосам, используемым для откачки химически активных газов; рассмотрены и сопоставлены основные виды насосов.

Дипломный проект - Усовершенствование блока управления и конструкции реактора установки вакуумного напыления

degree

формат rtf
размер 7.76 МБ
добавлен 26 марта 2011 г.

Херсонский национальный технический университет Специальность-090.212 Електронне машинобудування 69 стр. Титульный лист на украинском языке. Данный проект состоит из разделов: Технологии вакуумного напыления и оборудование для нанесения тонких слоев и плёнок. Рассмотрены: различные методы напыления и физические основы нанесения тонких пленок, основные требования и системы оборудования для нанесения тонких плёнок, элементы вакуумных систем и устр...

Игнатенко. П.И., Терпий Д.Н., Кляхина Н.А. О влиянии подложки на формирование состава, структуры и твердости нитридных и боридных пленок, полученных методами ионного осаждения

Статья

формат pdf
размер 618.56 КБ
добавлен 02 мая 2011 г.

Статья. Опубликована в ЖТФ, 2009, том 79, вып. 7 с.101-107 Лит. -20 наим. Методами рентгеновской дифрактометрии, электронной микроскопии и вторичной ионной масс-спектрометрии рассмотрено влияние материала подложки на структурно-фазовое состояние и твердость нитридных и боридных пленок. Утверждается, что степень этого влияния зависит от метода напыления, определяющего ту или иную энергию ионов, поступающих на подложку и их энергию связи с атомами...

Костржицкий А.И., Лебединский О.В. Многокомпонентные вакуумные покрытия

формат pdf
размер 5.37 МБ
добавлен 23 января 2012 г.

М.: Машиностроение, 1987, 208 с.: ил. Изложены теоретические основы способов получения покрытий из сплавов в вакууме, приведены основы технологии нанесения различных покрытий из сплавов на металлы и неметаллы. Обобщены данные исследований влияния условий осаждения покрытий на их пористость и защитные свойства, а также электрохимического поведения покрытий в агрессивных средах. Рассмотрены методы получения вакуумных многокомпонентных пленок и покр...

Минайчев В.Е. Вакуумное оборудование для нанесения пленок

формат djvu
размер 898.2 КБ
добавлен 01 марта 2010 г.

М.: Машиностроение, 1978, 60 с. Кратко рассмотрены вакуумные технологические методы получения тонких пленок, которые находят все большее применение в различных областях науки и техники, а также некоторые прикладные вопросы вакуумной техники. Приведены классификация и технические данные. Описаны наиболее типичные испарительно-распылительные системы и установки для нанесения тонких пленок. Даны практические рекомендации по использованию оборудовани...

Минайчев В.Е. Нанесение пленок в вакууме

формат djvu
размер 3.07 МБ
добавлен 01 сентября 2009 г.

Высшая школа. 1989. 110 с. Рассмотрены вопросы: нанесение пленок методами термического испарения, ионно-плазменного распыления; контроль параметров пленок и технологических режимов их нанесения; оборудование для нанесения пленок; электровакуумная гигиена и техника безопасности.