• формат djvu
  • размер 1.44 МБ
  • добавлен 01 марта 2010 г.
Берлин Е.В., Двинин С.А., Сейдман Л.А. Вакуумная технология и оборудование для нанесения и травления тонких пленок
М: Техносфера, 2007. - 176 с.
В книге обобщено современное состояние одной из отраслей производства изделий электронной техники: вакуумной технологии нанесения и травления тонких пленок. Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок, плазмохимических установок для травления тонких пленок и технологических особенностей их использования. Описаны математические модели, способы управления и примеры использования реактивного магнетронного напыления, принципы построения и применения среднечастотных источников питания для реактивного магнетронного напыления. Приведены теоретические основы и физические принципы конструирования нового типа источника высокочастотного разряда низкого давления для ионного или плазменного травления тонких пленок и/или их стимулированного плазмой осаждения.
Смотрите также

Введенский В.Д., Рязанкин В.П. Вакуумная технология оптического приборостроения

  • формат pdf
  • размер 3.19 МБ
  • добавлен 31 мая 2009 г.
В пособии рассмотрены основные типы тонкослойных оптических покрытий, наносимых в вакууме. Приведены ряд особенносей испарения оксидов металлов при их электронно-лучевом испарении в вакууме. Методами пассивного и активного моделирования процессов нанесения, построены математические модели слоёв с различными выходными функциями. Приводится пример расчёта реального технологического процесса нанесения слоёв в вакууме.

Волков А.Н. и др. Вакуумная техника. Нанесение покрытий

  • формат pdf
  • размер 1.84 МБ
  • добавлен 25 января 2011 г.
Волков А. Н., Дьяченко В. А., Клюкин В. Ю. Вакуумная техника. Методы, технологические процессы и оборудование для нанесения покрытий: Учеб. пособие. СПб.: Изд-во СПбГТУ, 1996. - 44 с. Для студентов конструкторских специальностей 5-го курса механико-машиностроительного факультета, изучающих курсы "Вакуумная техника", "Оборудование для производства электровакуумных приборов", "Оборудование для производства полупроводниковых приборов". Пособие может...

Данилин Б.С. Вакуумное нанесение тонких пленок

  • формат djvu
  • размер 4.63 МБ
  • добавлен 01 марта 2010 г.
М.: Энергия , 1967. - 312 стр. с илл. В книге рассматриваются способы получения и обработки, а также методы измерения скорости напыления и толщины тонкопленочных слоев и основные области применения тонких пленок. Излагаются требования к вакууму и составу остаточной среды при термическом испарении и катодном распылении и описываются современные средства получения и измерения вакуума, а также оборудование и аппаратура, используемые при получении т...

Данилин Б.С. Вакуумные технологические процессы и оборудование микроэлектроники

  • формат pdf
  • размер 3.18 МБ
  • добавлен 13 января 2011 г.
М.: Машиностроение, 1987. – 72 с.: ил. Под ред. В. К. Сырчина. В брошюре кратко рассмотрены вакуумные процессы в химически активной среде (плазмохимическое осаждение пленок при пониженном давлении и вакуумно-плазменное травление микроструктур). Дан анализ влияния различных факторов на параметры процессов осаждения и травления. Сформулированы требования к вакуумным насосам, используемым для откачки химически активных газов; рассмотрены и сопоставл...

Данилин Б.С. Вакуумные технологические процессы и оборудование микроэлектроники

  • формат djvu
  • размер 1005.12 КБ
  • добавлен 01 марта 2010 г.
М.: Машиностроение, 1987. 72 с. В брошюре кратко рассмотрены вакуумные процессы в химически активной среде (плазмохимическое осаждение пленок при пониженном давлении и вакуумно-плазменное травление микроструктур). Дан анализ влияния различных факторов на параметры процессов осаждения и травления. Сформулированы требования к вакуумным насосам, используемым для откачки химически активных газов; рассмотрены и сопоставлены основные виды насосов.

Дипломный проект - Усовершенствование блока управления и конструкции реактора установки вакуумного напыления

degree
  • формат rtf
  • размер 7.76 МБ
  • добавлен 26 марта 2011 г.
Херсонский национальный технический университет Специальность-090.212 Електронне машинобудування 69 стр. Титульный лист на украинском языке. Данный проект состоит из разделов: Технологии вакуумного напыления и оборудование для нанесения тонких слоев и плёнок. Рассмотрены: различные методы напыления и физические основы нанесения тонких пленок, основные требования и системы оборудования для нанесения тонких плёнок, элементы вакуумных систем и устр...

Минайчев В.Е. Вакуумное оборудование для нанесения пленок

  • формат djvu
  • размер 898.2 КБ
  • добавлен 01 марта 2010 г.
М.: Машиностроение, 1978, 60 с. Кратко рассмотрены вакуумные технологические методы получения тонких пленок, которые находят все большее применение в различных областях науки и техники, а также некоторые прикладные вопросы вакуумной техники. Приведены классификация и технические данные. Описаны наиболее типичные испарительно-распылительные системы и установки для нанесения тонких пленок. Даны практические рекомендации по использованию оборудовани...

Минайчев В.Е. Нанесение пленок в вакууме

  • формат djvu
  • размер 3.07 МБ
  • добавлен 01 сентября 2009 г.
Высшая школа. 1989. 110 с. Рассмотрены вопросы: нанесение пленок методами термического испарения, ионно-плазменного распыления; контроль параметров пленок и технологических режимов их нанесения; оборудование для нанесения пленок; электровакуумная гигиена и техника безопасности.

Реферат - Методы получения тонких пленок

Реферат
  • формат doc
  • размер 25.83 КБ
  • добавлен 25 апреля 2011 г.
Рассмотрены основные методы получения тонких пленок: физические методы осаждения: термическое испарение за счет резистивного нагрева; электронно-лучевое испарение; лазерное испарение; ионно-лучевое распыление; катодное распыление; магнетронное распыление и химические методы осаждения: осаждение из газовой фазы; метод распылительного пиролиза; жидкофазная эпитаксия; электролиз; золь – гель метод. 18с.

Третья Российская студенческая научно-техническая конференция Вакуумная техника и технология. Материалы конференции

Статья
  • формат djvu
  • размер 2.7 МБ
  • добавлен 23 января 2012 г.
Казань, 10-12 апреля 2007 г., 154с. Пленарные доклады. С.Б. Нестеров, профессор МЭИ, зам.директора НИИВТ им. С.А. Векшинского. Тенденции развития вакуумной техники, криогенной техники и нанотехнологии. Е.Н. Капустин, генеральный директор, А.С. Данилин, начальник НТЦ ОАО «Вакууммаш». Новое оборудование и перспективные разработки ОАО «Вакууммаш». К.Е. Демихов, профессор, Н.К. Никулин, доцент МГТУ им. Н.Э. Баумана. О создании и перспективах развития...