Berlin Heidelberg, Springer-Verlag, 1998, p. 616.
Руководство от техники очистки Ultraclean для всех этапов кремниевой технологии VLSI.
Ключевые слова: технология очистки, кремниевая технология, технология VLSI, Ultraclean, silicon technology, cleaning particle contamination, Takeshi Hattori
Руководство от техники очистки Ultraclean для всех этапов кремниевой технологии VLSI.
Ключевые слова: технология очистки, кремниевая технология, технология VLSI, Ultraclean, silicon technology, cleaning particle contamination, Takeshi Hattori