Майссел Л., Глэнг Р. Технология тонких пленок. Справочник

Гасанов Ильхам Солтан оглы. Плазменная и пучковая технология. Изд-во: "Элм", Баку 2007, 175 стр. В книге рассматриваются физические процессы, лежащие в основе работы ионных и плазменных источников, а также их конструкции и функциональные параметры. Описываются методы масс-анализа состава ионных пучков и остаточного газа в вакуумной системе. Характеризуются механизмы взаимодействия ускоренных ионов и электронов с веществом, способы осаждения тонк...

Статья. Опубликована в Доклады БГУИР, 2003, т.1, №2, с.78-82. Интегрированная система ионно-ассистированного магнетронного распыления была разработана для расширения возможностей управления параметрами осаждаемых пленок. Преимуществом предлагаемого способа нанесения является высокая скорость роста покрытия с заданной структурой и соответственно физико-химическими свойствами. Приведена схема устройства и результаты исследований вольтамперных харак...

Учебное пособие. - Томск, ТПУ, 2011. - 137 с. В пособии изложен обзор основных видов тонкопленочных покрытий, наносимых с использованием низкотемпературной плазмы и вакууме. Рассмотрена роль тонкопленочных покрытий в технологических процессах и важность задачи разработки новых покрытий с улучшенными характеристиками. Сформулировано значение и описаны способы предварительной очистки поверхности перед нанесением на нее тонких пленок. Рассмотрены...

Рассмотрены физические основы магнетронного распыления и разновидности магнетронных систем для нанесения тонких пленок и покрытий различного назначения, в том числе системы с усиленной ионизацией газовой среды и импульсные магнетронные распылительные системы. Для научных и инженерно-технических работников, аспирантов и студентов высших технических заведений, специализирующихся в области электронных физико-технических устройств и ионно-плазменных...

Статья. Опубликована в Материалы XХХIХ научно-технической конференции по итогам работы профессорско-преподавательского состава СевКавГТУ за 2009 год. Том 1. Естественные и точные науки. Технические и прикладные науки. Ставрополь: СевКавГТУ, 2010. 2с. Прямое осаждение пленок непосредственно из пучков ионов является идеальным процессом, поскольку позволяет управлять энергией частиц осаждаемого материала [1,2]. Однако для реализации этого процесса т...

Статья. Опубликована в ФІП ФИП PSE, 2009, т. 7, № 3, с.223 - 238 В обзоре рассмотрены основные методы получения диоксида титана в виде тонких пленок. Результаты анализа литературных данных позволяет сделать заключение о том, что наиболее предпочтительным методом получения фотокаталитических пленок диоксида титана является процесс осаждения потоков плазмы вакуумной дуги в присутствии кислорода. Наилучшими свойствами обладают пленки, получаемые с п...

Academic Press, San Diego, 1994, 322 c. В книге представлены несколько больших обзоров: 1) Конструкция плазменных источников высокой плотности для обработки материалов 2) Плазменные источники на основе электрон-циклотронного резонанса и их использование для плазменного осаждения тонких пленок 3) Несбалансированное магнетронное распыление 4) Формирование частиц (пылевых) в технологической плазме.

Academic Press, Boston, 1989, 260 c. В книге представлены такие большие главы: 1) Реактивное распыление 2) Плазменное окисление 3) Катодное дуговое плазменное осаждение тонких пленок 4) Подготовка подложек для осаждения пленок с использованием методик тлеющего разряда

Wiley, New York, 2000, 312 c. В книге сначала представлено введение о принципах и разрядных системах, используемых для плазменного осаждения пленок. Затем приведена кинетическая теория газов. Рассмотрены механихмы адсорбции и конденсации на поверхности. Дается краткий обзор о вакуумных системах, способах создания и контроля вакуума. Описаны источники, основанные на испарении, распылительные системы (RF, DC, магнетронные), а также механизмы, участ...

San Diego, Academic Press, 1999, 419 p. Рассмотрены различные конструкции плазменных распылительных систем для осаждения тонких пленок, а также происходящие в них физические процессы. Кроме Введения, содержит следующие главы: 1) Физика распыления 2) Плазменные системы 3) Планарный магнетрон 4) Распылительные устройства 5) Направленное осаждение 6) Планаризованное PVD: использование повышенных температур и/или высокого давления 7) Ионизованное маг...