Гасанов Ильхам Солтан оглы. Плазменная и пучковая технология.
Изд-во: "Элм", Баку 2007, 175 стр.
В книге рассматриваются физические процессы, лежащие в основе работы ионных и плазменных источников, а также их конструкции и функциональные параметры. Описываются методы масс-анализа состава ионных пучков и остаточного газа в вакуумной системе.
Характеризуются механизмы взаимодействия ускоренных ионов и электронов с веществом, способы осаждения тонких пленок, основные применения плазменной технологии.
По содержанию и уровню изложения книга предназначена для научных сотрудников, работающих в области физической электроники, а также может быть рекомендована аспирантам и магистрам соответствующих специальностей.
- Плазменное состояние вещества. Элементарные процессы в плазме
- Способы получения вакуума. Термоэлектронная и автоэлектронная эмиссия
- Системы извлечения заряженных частиц. Пушка Пирса. Конструкция и параметры источников
- Элементы корпускулярной оптики. Влияние пространственного заряда пучков. Линзы и их аберрации
- Плазмооптика. Плазмооптические системы
- Ускорители заряженных частиц
- Электронная, ионная и туннельная микроскопия
- Масс-анализ ионных пучков
- Взаимодействие ускоренных электронов с веществом
- Электронно-лучевая обработка материалов
- Взаимодействие ускоренных ионов с веществом
- Ионное распыление материалов
- Применение ионного распыления
- Изменение электрических свойств твёрдых тел ионной бомбардировкой
- Пучковая металлургия
- Плазменная обработка поверхности материалов. Плазмохимия
- Получение тонких пленок в вакуумных условиях
В книге рассматриваются физические процессы, лежащие в основе работы ионных и плазменных источников, а также их конструкции и функциональные параметры. Описываются методы масс-анализа состава ионных пучков и остаточного газа в вакуумной системе.
Характеризуются механизмы взаимодействия ускоренных ионов и электронов с веществом, способы осаждения тонких пленок, основные применения плазменной технологии.
По содержанию и уровню изложения книга предназначена для научных сотрудников, работающих в области физической электроники, а также может быть рекомендована аспирантам и магистрам соответствующих специальностей.
- Плазменное состояние вещества. Элементарные процессы в плазме
- Способы получения вакуума. Термоэлектронная и автоэлектронная эмиссия
- Системы извлечения заряженных частиц. Пушка Пирса. Конструкция и параметры источников
- Элементы корпускулярной оптики. Влияние пространственного заряда пучков. Линзы и их аберрации
- Плазмооптика. Плазмооптические системы
- Ускорители заряженных частиц
- Электронная, ионная и туннельная микроскопия
- Масс-анализ ионных пучков
- Взаимодействие ускоренных электронов с веществом
- Электронно-лучевая обработка материалов
- Взаимодействие ускоренных ионов с веществом
- Ионное распыление материалов
- Применение ионного распыления
- Изменение электрических свойств твёрдых тел ионной бомбардировкой
- Пучковая металлургия
- Плазменная обработка поверхности материалов. Плазмохимия
- Получение тонких пленок в вакуумных условиях