Academic Press, San Diego, 1994, 322 c.
В книге представлены несколько больших обзоров:
1) Конструкция плазменных источников высокой плотности для обработки материалов
2) Плазменные источники на основе электрон-циклотронного резонанса и их использование для плазменного осаждения тонких пленок
3) Несбалансированное магнетронное распыление
4) Формирование частиц (пылевых) в технологической плазме.
В книге представлены несколько больших обзоров:
1) Конструкция плазменных источников высокой плотности для обработки материалов
2) Плазменные источники на основе электрон-циклотронного резонанса и их использование для плазменного осаждения тонких пленок
3) Несбалансированное магнетронное распыление
4) Формирование частиц (пылевых) в технологической плазме.