
Инверсия населенностей, необходимая для: создания свойст
венного лазерам индуцированного излучения, образуется в по
лупроводниковых источниках в тех случаях, когда количество*
электронов, находящихся на дне зоны проводимости, превыша
ет количество электронов, находящихся у потолка валентной
зоны. Для заселения отмеченного участка зоны проводимости*,
которая в сравнении с валентной зоной характеризуется: более-
высокими энергетическими уровнями, в полупроводниковых ла
зерах применяют различные методы накачки. К настоящему
времени наибольшее распространение получил метод инжек-
ции, под которым понимают «впрыскивание» носителей тока
(дырок или электронов) в область электронно-дырочного-
перехода. Такая инжекция осуществляется за счет протекания:
через р-п переход электрического тока значительной величины.
Наименьшая величина токаг при которой еще выполняются
условия для создания инверсии населенности, получила назва
ние пороговой. Плотность порогового тока, необходимая для:
обеспечения лазерного режима работы, при комнатной темпера
туре характеризуется тысячами ампер на квадратный санти
метр, причем при понижении температуры эта величина умень
шается.
Излучение, создаваемое полупроводниковыми арсенид-гал-
лиевыми лазерами, соответствует ближней инфракрасной часта
оптического спектра (диапазон длин волн 0,8—0,9 мкм). Ши
рина спектра излучения существенно зависит от величины про
текающего через р-п переход тока, а также от температуры, до
которой нагревается кристалл полупроводника. Ориентировоч
но эта ширина оценивается величинами порядка 1-10~4-МХ
X Ю-3 мкм.
Основу конструкции используемых в дальномерной технике-
полупроводниковых инжекционных лазеров составляет кри
сталл из арсенида галлия, имеющий две зоны проводимости
(рис. 33). Излучающей поверхностью в нем является р-п пере
ход, ширина которого измеряется десятыми долями миллимет
ра, а толщина — единицами микрометра. Передняя и задняя
грани кристалла выполняют роль, зеркальных поверхностей оп
тического резонатора, для чего эти грани тщательно полируют
ся. Отражение света от таких поверхностей возникает за счет
разности в коэффициентах преломления полупроводника и воз
духа. Коэффициент отражения при этом составляет величину
около 30%, что оказывается вполне достаточным для обеспече
ния в оптическом резонаторе условий генерации. Для подклю
чения кристалла к источнику электрической энергии к наруж
ным его граням привариваются проводники, образующие с те
лом полупроводника омические контакты.
Углы расхождения луча инжекционного лазера в плоскости
р-п перехода составляют несколько градусов, а в перпендику
лярной плоскости— около 10 °.