Поэтому областью применимости
3lnQ>>1. Оценим величину Q для следу
излагаемой теории является сильное неравенство
ющих условий роста при молекулярно-пучковой
9
т
яются: очень низкие температуры поверхности
(подав
. С другой стороны, при очень высоких температурах возрастает
и режим полной конденсации переходит в режим неполной
т происходит именно при таких значениях
теории оправдано. Так, чрезмерное повышение
ее понижение – к уменьшению диффузии и, как следствие, увеличению шероховатости и
низкому качеству поверхности.
Определив максимальное пересыщение
Φ
*
по формуле (2.18) (или из решения
выражения для всех остальных характеристик процесса зарождения островков. Выразим
их через известные параметры
Φ
*
,
Γ
=
Γ
(
Φ
*
) и Q. Подстановка (2.15) в (2.12) и (2.8) для
эпитаксии и параметров материала, примерно соответствующих GaAs [205,206]: T
=
580
0
C, V=0.1 МС/сек, T
c
=2200 K, E
D
=0.8 эВ,
ν
D
=3x10 сек
-1
,
√σ
=l
D
. При данных значениях
параметров
θ
eq
=6x10
-3
, t
D
=1.8x10
-5
сек,
τ
D
=3x10
-3
сек, Q=110 и 3lnQ=14.1.Следовательно,
условие применимости теории выполнено с большим запасом. Очевидно, параметр Q
уменьшается обратно пропорционально V при увеличении скорости осаждения и
экспоненциально убывает при уменьшении температуры T. Поэ ому наиболее
существенными ограничениями теории явл
ляется диффузия) и очень быстрое осаждение (нарушается иерархия временных
масштабов
конденсации)
влияние десорбции
конденсации, рассматриваемый в п.2.6. Вместе с тем отметим, что в подавляющем
большинстве случаев эпитаксиальный рос
параметров, когда применение излагаемой
температуры поверхности
приводит к нежелательной десорбции материала, а чрезмерное
точного трансцендентного уравнения (2.17)), нетрудно найти простые аналитические
пересыщения адатомов и скорости зарождения дает соответственно
⎥
⎢
⎟
⎞
⎜
∆
−
Γ
+Φ=
t
tt
t
tt
t
***
*
exp(
ζ
(2.20)
⎦
⎤
⎣
⎡
⎠⎝
⎛
−
∆
−Φ
)
105