Дефекты флексографской печати
Подождите немного. Документ загружается.
ООО Тампомеханика (095) 250-7262
1
ДЕФЕКТЫ ФЛЕКСОГРАФСКОЙ ПЕЧАТИ
Раздел А:
Раздел В:
Разде л С:
Дефекты, возникающие при изготовлении
клише.
Дефекты, возникающие в процессе печати
Дефекты, возникающие в результате ненадлежащей
работы оборудов ание для обрабо тки полим ерны х
пластин
ООО Тампомеханика (095) 250-7262
2
Перечень дефектов, возникающих пр и изготовлении
печатных пластин.
А 1. Существенные колебания толщины в пределах одной
пластины.
А 2. Слишком маленькая высота рельефа.
А 3. Образование трещин в пластине.
А 4. Участки печатной формы, соответству ющие светлым
полутоновым участкам растровых изображений им еют
высоту рельефа бо л ь ш е чем участки печатной формы,
соответствующ ие темным участкам.
А 5. Субстратный слой остается пятнами на поверхности
рельефа.
А 6. Не воспроизводятся све тлые участки растро вых
изображений и отдельно стоящие точки.
А 7. Уменьшение растровой точки по краям изображения
("эффект рамки").
А 8. Недостаточная глубин а выворотки.
А 9. Эффект «апель синовой корки» на поверхности рельефа.
А 10. Деформация необработанных пласти н.
А 11. Величина угла боковой грани печатного элемента слишком
велика. Глубина выворотки недостаточна.
А 12. Твердость печатной формы по Шору сли ш ком
мала.
А 13. Колебания толщины необработанных пластин.
А 14. Отличия в высоте рельефа на разли ч ных участках клише
растровых изображений.
А 16. На плас тинах МE вымываются мелкие элементы
рельефа.
А 17. Вымывание растров ых точек в вы соких светах растровых
изображений .
ООО Тампомеханика (095) 250-7262
3
А 1 . Дефек т:
Слишком большие колебания толщ ины в пределах одной
пластины.
Причина возн и к но ве ния дефекта.
1. Производственный брак при изготовлении полимерных
пластин, превы шены допуски ±15 мкм в п р еделах одной
пластины (см. «Рабочую инструкцию»).
2. Нару шена технол о гия при об раб о тке пластины. Время сушки
слишком коротко и/или слишком большие пе репады
температу ры в су шил ке.
Способ предотвращени я дефекта.
1. Пров еряйте толщину необработанной пластины перед
обработкой.
2. Проверьте распределение температуры в сушилке
(±4°С). Указанные в рабочей инструкции времена сушки –
минимальны. Подберите оптимальное время су шки , при
этом, след у ет стремиться к увеличению вр емени су шки.
Примечания.
При коротком времени су шки остаются участки печатной
формы, набухшие при вымывании, которые сначала фиксируются
постэк сп они рова ни ем и сглаживаются ли шь чере з несколько
недель хранения клише. Этот процесс может протекать
неравномер но в пределах одной пластины. Одни участки сюжета
могут сох ранить первоначальное набухание, дру гие нет.
При несоблюдении рекомендованного времени сушки
невозможно обеспечить равномер ность толщины кли ше.
ООО Тампомеханика (095) 250-7262
4
А 2. Дефект:
Высота рельефа слишком мала.
Причина возникновения дефекта.
1. Слишком длительное предва рител ьное экспонирование;
2. Слишком короткое время вымывания;
3. Слишком больш ое расстояние от щетки;
4. Растворитель насыще н полимером (тре бу ется более
длительное время вымывания);
5. Слишком ни зкая температу ра растворителя.
Способ предотвращения дефекта.
1. Подберите время предвари тельно го экспонирования . Время
экспонирования мож ет меняться от од ной партии полимера к
другой. Время хранения необработанной пластины также
имеет некоторое значение. Также очень важно соблюдать
температу ру вакуумной пли ты экспо н иру ющего устройства.
Зачасту ю, при длительной работе, температура поверхности
данной пли ты может достичь температуры 50° С и выше. Это
может при вести к теп ловой полимеризации ниж него слоя
необработанной пла стины . Рекоменду ется стабилизировать
температуру вакуум ной плиты с помощ ью устройства для
охлаждения и нагревания, если это п редусмотре но
конструкцией машины. Данное устройство поставляется как
дополнительное обору дование.
2. Слишком короткое время вымывания отражается на
внешнем виде рельефа. На оставшемся , не вымытом слое
полимера бывают отчётливо видны следы от щеток.
3. Подберите опти мальну ю высоту щётки
4. При сл и ш ко м насыще нном полимером растворителе капли
полимера остаются на поверхности рельефа даже после
процесса ополаскивания.
Рекомендуется при использовании Nylosolv II не допускать
превышения загрязненности раствора более 5 - 5,5%
(весо вых).
Проверьте температу ру растворител я и уровень вод ы в
устройстве для стабилизации ег о температуры.
Рекомендуемую высоту рельефа см. в «Рабочей
инструкции»
ООО Тампомеханика (095) 250-7262
5
A3. Дефект:
Образование трещин в пластине.
Причина возникновения дефекта.
1. Избыточное воздействие ультрафиолетового излучения С
во время дополнительной обработки.
2. Пластина не была вымыта до полимеризованного
основания или не была экспонирована ультрафиолетовым
излучением диап азона А.
3. Длительность экспон ирования ультрафиолетом диапазона
С слишком велика.
4. Пластина подвергается чрезмерному нагреванию в
устройстве для дополнительной обработки, высокие
температуры способствуют образованию трещин.
Способ предотвращения дефекта.
Подбер ите точнее время дополнительной обработки.
Не применяйте экспонирование ультрафиолетовым
излучением С до экспонирования излучением А.
Проверьте значение температуры в экспонирующем
устройстве. Повышенная температура усиливает
воздействие ультрафиолетового излучения С, что в свою
очередь приводит к образованию трещин, которые
начинаются в основании рельефа и продолжаются до
поверхности. Подберите точнее время предварительного
экспонирования и скорость вымывания.
ООО Тампомеханика (095) 250-7262
6
А 4. Дефек т:
Участки печатной формы, соответству ющи е светлым участкам
растровых изображений имеют высоту рельефа боль ш е чем
участки печатной формы, соответствующие темным участкам и
плашкам.
Причина возн и к но ве ния дефекта.
В результате основного экспонирования полимеризация на
участках печатной формы соответствующих светлым
растровым участкам заметно слабей, чем под плашками и
жирными элементами изображения. Отдельно стоящие точки
могут «расплываться» по основанию (при тоновых градациях
менее 1%).
Увеличение рельефа может быть вызвано также и
набуханием полимера в процессе вымывания.
Способ предотвращени я дефекта.
Увеличьте врем я сушк и вдвое, а возможно и более . Но этого не
всегда бывает достаточно. В этом случае увеличьте время
предварительного экспонирования и несколько сократи те время
вымывания, стараясь ограничить высо ту рельефа величиной 0,7-
0,9 мм. При этом основание под растровыми точками будет лучше
полимеризовываться и в меньшей степени набу х ать при
вымывании.
Примечания.
Фирма BASF рекомендует в «Рабочей инструкции»
минимальные значения для мелких деталей рельефа при работе
с пластинами Nyloflex. Например, предельная величина для
растровых тонов равна 2%. Имеется еще запас до 1 %,
распознаваемый на ко нтрольном негативе для экспонирования .
Эти предельные величины не всегда соблюдаются. С
растровыми изображениями для флексографии, зачастую
обращаются как с офсетны ми. Для получения
высококачественных изображений требуется тщательный подбор
режимов обработки пла стин.
ООО Тампомеханика (095) 250-7262
7
А 5. Дефек т:
Субстратный слой образует пятна на пов ерхности рель е фа .
После вымыва ния на осно вании остаются "столовые горы".
Причина возникновения дефекта.
Раствор для вымывания содержит слишком мало спирта В
растворе Nylosolv II не хватает аддитива В, при работе с
тетрахлорэти леном – не достаточно п-бутанола.
Способ предотвращения дефекта.
Протестировать растворитель и откорректировать его состав .
Примечания.
Спирт, содержащийся в растворе для вымывания, растворяет
покровный слой, называемый такж е субстратным, который
наносится на полимерный слой . Аддитивы А и С или
тетр ахлорэтилен не раство ряют этот слой. Если процент спирта в
растворе для вымывания слишком мал, субс трат ный слой
остаётся и образует таким образом барьер против углеводородов
из состава растворителя для вымывания. Уменьш ение
процентного содержания спирта в растворителе Nylosolv II
происходит в результате испарения при работе установок
вымывания. Аддитив В испаряется быстрее аддитивов А и С.
ООО Тампомеханика (095) 250-7262
8
А 6. Дефект:
Светлые растровые участки и мелкие, отдельно расположенные
точки (например, микроточки) не воспроизводятся, хотя при
контрольном основном экспонировании такие элементы хорошо
воспроизводили сь.
Причина возникновения дефекта.
Кислородный барьер. После предварительного
экспонирования и снятия защитной плен ки прошло слишком много
времени до начала основного экспо нирования .
Вуаль на пленках; микроточки слишком мелкие (см.
«Рабочу ю инструкцию», минимальные размеры деталей,
поддающихся восп роизведению).
Способ предотвращени я дефекта.
После снятия защитной пленки необходимо быстрее
произве с ти экспонирование. Наложени е негатива, создание
вакуума и на ч ал о основного экспонирования должны зан имат ь не
более 5-8 минут.
Примечания.
Предварительное экспонирование с обратной стороны
увеличивает чувствительность в слое полимера толщиной 0,3-0,4
мм над полимеризованным основанием. Этот процесс является
очень важным для воспроизведения мелких элементов рельефа
процесс. Повышение чувст вительно сти вызывается
высвобождением из пластины кислорода, препятству юще го
полимеризации. Если же пластины после предварительного
экспонирования со снятой защитной пленкой подвергается
атмосферному воздейств ию , кислород снова проникает в
поверхность пластины и ослабляет действие предварительного
экспонирования. Это ослабление может быть достаточным для
того, чтобы не восп роизвод ились растровые тона уже от 1 % до
2%.
ООО Тампомеханика (095) 250-7262
9
А 7. Дефек т:
Уменьшение растровой точки по краям изображения шириной
15-25 мм ("эффект рамки").
Причина.
Недостаточное прилегани е нег ати ва к пластине при
экспонировании.
Способ предотвращения дефекта.
Проверьте показание значения вакуума. Индикатор вакуума в
устройстве экспонирования может очень быстро после включения
вакуумного насоса показать необх оди мое разряжение ( в
зависим ости от устройства обычно от - 0,75 до - 0,9 бар) при этом
вакуумная плёнка зачасту ю прижимается по краям пластины
плотнее, чем в се редине, где и остаётся некоторое количество
воздуха.
Качество прижима необходимо проверять вручную. Если
вакуумная пленка не смещается по пласти не и прилегает плотно,
можно начина ть экспони рование .
Примечания.
Кислород связывает фотоинициаторы и препятству ет тем
самым образованию полимерных цепочек (полимеризации). Если
эмульсио нная сторона нега тив ной пленки непло тно п рилегает к
поверхности пластины, то между ними нах од ится воздух, т.е. и
кислород, который должен быть связан фотоинициаторами,
прежде чем может начаться цепная реакция. В центре растрового
изображения, где меньше прит ок кислорода из вне, он
связы вае тся быстрее и не возник ает заметных потерь при
копировании. Наоборот , на краях пластины, п р оисход и т приток
кислорода из окру жающей среды и связывание его
соотве тстве нно длиться дольше, что в свою очередь приводит к
потерям при копировании .
ООО Тампомеханика (095) 250-7262
10
А 8. Дефек т:
Недостаточная глубина выворотки.
Способ предотвращения дефекта.
Тщательнее подберите время основного экспонирования.
Примечания.
Для воспроизведения мелких элементов рельефа (линии
толщиной 50 мкм, отдельно расположенных точек 250 мкм,
растровых тонов 1 -2%), возможно было установлено большое
время основного экспонирования.
Количество света, который проходит через мелкие элементы
негатива, невелико, этот свет неглубоко проникает в
полимерный слой и потому не воздействует на глубинные части
пластины. Более длительное основное экспонирование на этих
участках не эффективно. На участках, на которые попадает
много света (плашках), наоборот, свет проникает глубже и
боковые грани элементов рельефа становятся более пологими,
а глубина выворотки более мелкой.
Подберите тщательнее длительности предварительного и
основного экспонирований, согласно рекомендациям «Рабочей
инструкции».
Еще одна важная рекомендация:
При работе с пластинами Nyloflex и с большинством других
фотополимерных пластин, точность воспроизведения тонов
при переносе изображения с пленки на пластину не меняется
при разном времени основного экспонирования. Диаметр точек
и угол наклона боковых граней мелких элементов на растровых
участках быстро формируются в начале основного
экспонирования и больше не изменяются при увеличении
времени основного экспонирования. Переэкспонирование
затрагивает лишь боковые грани негативных элементов на
плашках.