Дисертация
  • формат pdf
  • размер 392.98 КБ
  • добавлен 26 мая 2011 г.
Русакова А.В. Особенности распыления конструкционных материалов ионами аргона с энергией 2-7 кэВ
Работа выполнена на конкурс НИОКР молодых ученых и специалистов НЯЦ РК (Прикладные исследования) Курчатов 2006, 15с.
В результате исследования на базе установки RES – 100 (Balzers, Швейцария) создан стенд, предназначенный для исследования процессов распыления необлученных и облученных металлических материалов и приготовлены образцы для исследований. Применительно к исследованию топографии распыленных поверхностей разработаны методики количественной характеризации микрорельефа облученных поверхностей, включающие в себя микроинтерференцию и микрозондирование. С использованием разработанного стенда исследованы особенности и закономерности распыления молибдена и сплава на основе алюминия (САВ-1) под воздействием ускоренных ионов аргона. Показано, что в диапазоне энергий 3-7 кэВ
исследованные материалы распыляются практически одинаково.
Похожие разделы
Смотрите также

Беграмбеков Л.Б. Процессы в твердом теле под действием ионного и плазменного облучения

  • формат pdf
  • размер 7.94 МБ
  • добавлен 03 ноября 2011 г.
Учебное пособие. — М.: МИФИ, 2008. — 196 с. В учебном пособии излагаются основные закономерности и физические механизмы процессов, вызванных облучением ионами и плазмой в твердых телах, и затем рассматриваются те изменения рельефа, состава и структуры, к которым, в конечном счете, приводит ионно-плазменное воздействие. В последних главах анализируются особенности радиационно-стимулируемых изменений твердых тел различных типов: металлов, сплавов,...

Габович М.Д., Плешивцев Н.В., Семашко Н.Н. Пучки ионов и атомов для управляемого термоядерного синтеза и технологических целей

  • формат djvu
  • размер 6.11 МБ
  • добавлен 17 июля 2011 г.
Москва, Энергоатомиздат, 1986. 248 с. Рассмотрены физические принципы получения, фокусировки и транспортировки многоамперных ионных и атомных пучков. Описаны современные плазменные источники ионов водорода, дейтерия, инертных газов, тугоплавких элементов. Показаны достижения и перспективы создания пучков атомов дейтерия мощностью от единиц до сотен мегаватт. Изложены основные закономерности процесса ионного (катодного)* распыления. Обобщен накопл...

Капустин В.Л., Широков Б.М. Травление поверхности металлов в плазме аргона

Статья
  • формат pdf
  • размер 154.38 КБ
  • добавлен 08 октября 2011 г.
Статья. Опубликована в Вопросы атомной науки и техники,№2,2001,2с. Исследован процесс обработки поверхности металлов в несамостоятельном высокочастотном индукционном разряде аргона.Определена зависимость скорости травления Mo, W. Та. стали Х18Н10Т от давления в камере, от вкладываемой в разряд мощности, от потенциала на подложке.

Коробкин Ю.В. и др. Неустойчивости вакуумного разряда при лазерном инициировании катодного пятна

Статья
  • формат pdf
  • размер 242.63 КБ
  • добавлен 08 октября 2011 г.
Статья. Опубликована в Журнал технической физики, 2005, том 75, вып. 9, 6(34-39)с. Исследованы особенности динамики быстрых (скорость нарастания тока 10 в 11 A/s) лазерно- индуцированных вакуумных разрядов с относительно небольшими значениями амплитуды тока ( 10 кА), а также напряжеши и энергии накопителя ( 20 kV и 20 J соответственно). Экспериментально установлено, что начальные условия, определяемые энергией и дчительностью лазерного излучения,...

Котов Д.А. Исследование вольтамперных характеристик интегрированной ионно-плазменной системы

Статья
  • формат pdf
  • размер 249 КБ
  • добавлен 23 мая 2011 г.
Статья. Опубликована в Доклады БГУИР, 2003, т.1, №2, с.78-82. Интегрированная система ионно-ассистированного магнетронного распыления была разработана для расширения возможностей управления параметрами осаждаемых пленок. Преимуществом предлагаемого способа нанесения является высокая скорость роста покрытия с заданной структурой и соответственно физико-химическими свойствами. Приведена схема устройства и результаты исследований вольтамперных харак...

Кузьмичев А.И. Магнетронные распылительные системы. Кн. 1. Введение в физику и технику магнетронного распыления

  • формат pdf
  • размер 11.38 МБ
  • добавлен 24 июня 2010 г.
Рассмотрены физические основы магнетронного распыления и разновидности магнетронных систем для нанесения тонких пленок и покрытий различного назначения, в том числе системы с усиленной ионизацией газовой среды и импульсные магнетронные распылительные системы. Для научных и инженерно-технических работников, аспирантов и студентов высших технических заведений, специализирующихся в области электронных физико-технических устройств и ионно-плазменных...

Матвеев В.И., Карпова О.В. К теории распыления металла в виде нейтральных и заряженных кластеров

Статья
  • формат pdf
  • размер 269.14 КБ
  • добавлен 22 мая 2011 г.
Статья. Опубликована в Изв. ВУЗов. Физика. №6, 2002. с.3-6. Предложен метод расчета процессов упругого распыления металла в виде кластеров при ионной бомбардировке.

Немов А.С. Исследование распыления и ионно-электронной эмиссии углеродных материалов при высокодозном облучении

Дисертация
  • формат pdf
  • размер 673.69 КБ
  • добавлен 14 июля 2011 г.
Автореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата физико-математических наук Москва. 2007 г. 23с. Специальность 01.04.04 – физическая электроника Работа выполнена в Лаборатории взаимодействия ионов с веществом Отдела физики атомного ядра Научно-исследовательского института ядерной физики Московского государственного университета им. М.В. Ломоносова. и температурных зависимостей кинетической ионно-электронной эмиссии. Цели и задачи исс...

Плешивцев Н.В. Физические проблемы катодного распыления

  • формат pdf
  • размер 2.02 МБ
  • добавлен 22 мая 2011 г.
Обзор. ИАЭ им. И. В. Курчатова.1979. 90с. В обзорной лекции, прочитанной в Национальной школе Болгарии "Вакуумные, электронные я ионные технологии* для молодых научных работников и специалистов в г. Приморско 16 мая 1 9 7 6 г., показано значение процесса распыления вешеств атомными частицами в науке, технике, технологии и природе. Названы основные фундаментальные проблемы физики катодного распыления. Рассмотрены проблема первой стенки термоядерно...

Powell R.A., Rossnagel S.M. Thin Films

  • формат pdf
  • размер 13.6 МБ
  • добавлен 02 марта 2011 г.
San Diego, Academic Press, 1999, 419 p. Рассмотрены различные конструкции плазменных распылительных систем для осаждения тонких пленок, а также происходящие в них физические процессы. Кроме Введения, содержит следующие главы: 1) Физика распыления 2) Плазменные системы 3) Планарный магнетрон 4) Распылительные устройства 5) Направленное осаждение 6) Планаризованное PVD: использование повышенных температур и/или высокого давления 7) Ионизованное маг...