Москва, Энергоатомиздат, 1986. 248 с.
Рассмотрены физические принципы получения, фокусировки и транспортировки многоамперных ионных и атомных пучков. Описаны современные плазменные источники ионов водорода, дейтерия, инертных газов, тугоплавких элементов. Показаны достижения и перспективы создания пучков атомов дейтерия мощностью от единиц до сотен мегаватт. Изложены основные закономерности процесса ионного (катодного)* распыления. Обобщен накопленный, опыт по разнообразным технологическим применениям потоков ионов: очистке поверхностей от загрязнений, ионной обработке, шлифовке, травлению, получению покрытий ионным распылением и осаждением различных элементов и химических соединений. Указываются перспективы ионного легирования сталей и повышения их физико-химических свойств, ионного микроанализа поверхностей, получения сложных профилей с субмикронными размерами с целью более широкого использования ионных потоков и пучков в промышленности, научных исследованиях и разработках.
Для научных работников, инженеров, технологов, работающих в области технической физики, термоядерных и электрофизических исследований, металлофизики, а также преподавателей, аспирантов и студентов вузов соответствующих специальностей.
Оглавление
Предисловие
Ионные источники, плазменный эмиттер и первичное формирование ионных пучков
Фокусировка и транспортировка ионных пучков.
Сильноточные истбчники ионов и инжекторы быстрых атомов для термоядерных установок
Закономерности и теории распыления металлов ионами.
Ионная очистка и фрезерование поверхностей твердых тел.
Ионная шлифовка и выявление структуры твердых веществ.
Нанесение пленок ионным распылением.
Ионное осаждение пленок и плакировка поверхностей.
Сварка ионным пучком, микроанализ и микрообработка твердых тел ионными зондами.
Список литературы.
Предметный указатель.
Рассмотрены физические принципы получения, фокусировки и транспортировки многоамперных ионных и атомных пучков. Описаны современные плазменные источники ионов водорода, дейтерия, инертных газов, тугоплавких элементов. Показаны достижения и перспективы создания пучков атомов дейтерия мощностью от единиц до сотен мегаватт. Изложены основные закономерности процесса ионного (катодного)* распыления. Обобщен накопленный, опыт по разнообразным технологическим применениям потоков ионов: очистке поверхностей от загрязнений, ионной обработке, шлифовке, травлению, получению покрытий ионным распылением и осаждением различных элементов и химических соединений. Указываются перспективы ионного легирования сталей и повышения их физико-химических свойств, ионного микроанализа поверхностей, получения сложных профилей с субмикронными размерами с целью более широкого использования ионных потоков и пучков в промышленности, научных исследованиях и разработках.
Для научных работников, инженеров, технологов, работающих в области технической физики, термоядерных и электрофизических исследований, металлофизики, а также преподавателей, аспирантов и студентов вузов соответствующих специальностей.
Оглавление
Предисловие
Ионные источники, плазменный эмиттер и первичное формирование ионных пучков
Фокусировка и транспортировка ионных пучков.
Сильноточные истбчники ионов и инжекторы быстрых атомов для термоядерных установок
Закономерности и теории распыления металлов ионами.
Ионная очистка и фрезерование поверхностей твердых тел.
Ионная шлифовка и выявление структуры твердых веществ.
Нанесение пленок ионным распылением.
Ионное осаждение пленок и плакировка поверхностей.
Сварка ионным пучком, микроанализ и микрообработка твердых тел ионными зондами.
Список литературы.
Предметный указатель.