Библиотека по автоматике, вып. 176, М. —Л., изд-во „Энергия", 1966,
80 с. с черт.
Рассмотрен ряд требований, предъявляемых к параметрам магнитопленочных элементов, используемых в устройствах хранения дискретной информации. Рассматривается зависимость физических свойств пленок от их химического состава, линейных размеров и особенностей процесса изготовления. Описываются различные способы изготовления магнитных пленок: вакуумное испарение, электролиз, катодное распыление, химическое осаждение. Дано краткое описание установок для изготовления пленок. Книга рассчитана на инженеров, работающих в области вычислительной техники.
Предисловие.
Глава I. Основные факторы, влияющие на магнитные свойства пленок.
Магнитные параметры пленочных элементов.
Химический состав пленки.
Форма пленки.
Толщина пленки.
Подложка.
Очистка подложки.
Термомагнитная обработка.
Глава II. Изготовление пленок испарением в вакууме.
Эксперименты Блуа.
Глубина вакуума.
Скорость испарения.
Конденсация паров на подложке.
Испарители.
Вакуумные установки.
Глава III. Изготовление пленок электролитическим осаждением, катодным распылением и химическим осаждением.
Электролитическое осаждение.
Катодное распыление.
Химическое осаждение.
Заключение.
Литература.
Рассмотрен ряд требований, предъявляемых к параметрам магнитопленочных элементов, используемых в устройствах хранения дискретной информации. Рассматривается зависимость физических свойств пленок от их химического состава, линейных размеров и особенностей процесса изготовления. Описываются различные способы изготовления магнитных пленок: вакуумное испарение, электролиз, катодное распыление, химическое осаждение. Дано краткое описание установок для изготовления пленок. Книга рассчитана на инженеров, работающих в области вычислительной техники.
Предисловие.
Глава I. Основные факторы, влияющие на магнитные свойства пленок.
Магнитные параметры пленочных элементов.
Химический состав пленки.
Форма пленки.
Толщина пленки.
Подложка.
Очистка подложки.
Термомагнитная обработка.
Глава II. Изготовление пленок испарением в вакууме.
Эксперименты Блуа.
Глубина вакуума.
Скорость испарения.
Конденсация паров на подложке.
Испарители.
Вакуумные установки.
Глава III. Изготовление пленок электролитическим осаждением, катодным распылением и химическим осаждением.
Электролитическое осаждение.
Катодное распыление.
Химическое осаждение.
Заключение.
Литература.