можно и не делать специального отверстия. Область светового излучения обычно
представляет собой круг диаметром 50— 75 мкм. Так как площадь светового
излучения большая, то для увеличения яркости излучения плотность тока должна
быть высокой, в пределах от нескольких кА/см
2
до 15 кА/см
2
.
В СИД с торцевыми излучателями вывод излучения, выходящего из активного
слоя, осуществляется с торца, как в полупроводниковых лазерах. Так как в этом
случае генерируемое излучение при выводе наружу проходит через активный слой,
то имеет место сильное самопоглощение и КПД вывода излучения не может быть
таким же высоким, как у ранее
рассмотренного типа диодов. Поэтому применяется
следующий способ: по соседству с активным слоем формируется световодный слой
с малыми внутренними потерями, активный слой делается тонким, порядка 0,03—
0,1 мкм. В результате свет, распространяясь в слое покрытия, имеет небольшие
потери на поглощение. Кроме того, для предотвращения лазерной генерации
предпринимается ряд мер: 1) увеличивается толщина активного слоя,
повышается
пороговая плотность тока Ј
th
; 2) формируется область, в которой отсутствует
оптическое излучение; 3) на торце наносится просветляющее покрытие. Так как
площадь светового излучения небольшая, размером несколько квадратных микро-
метров, то и оптический выход не может быть высоким. Однако по сравнению с
диодами с поверхностным излучателем яркость оказывается в 5—10 раз большей.
4.2. Характеристика мощности оптического излучения
Если ток
инжекции обозначить через I, то мощность оптического излучения
СИД Р выражается в виде
(4.1)
где η
ex
— КПД вывода излучения, hv — энергия фотона, η
spon
— КПД светового
излучения, I/е — число носителей, инжектированных в активный слой в единицу
времени, е — заряд электрона.
Если время жизни излучательной и безызлучательной рекомбинации
обозначить соответственно через
г
и
Nr
, то КПД светового излучения будет
представляться в виде
(4.2)
То есть с увеличением составляющей безызлучательной рекомбинации КПД
светового излучения падает.
В η
ex
учитывается эффект уменьшения выводимого излучения за счет
самопоглощения в активном слое, френелевского отражения от граней кристалла и
полного внутреннего отражения. Так как P/hv соответствует числу излученных
фотонов в единицу времени, то произведение η
ex
x η
spon
выражает внешнюю
квантовую эффективность. При этом внешняя квантовая эффективность в СИД с
поверхностными излучателями составляет около 3%, а в СИД с торцевыми
излучателями —0,5—1%, т. е. меньше по сравнению с лазерами.