
Заключение. Применения и перспективы
307
Преимуществом лазерной плазмы при изучении материалов
является высокая яркость, т. е. большая энергия, сконцентри-
рованная в коротком импульсе и малом объеме. Наличие в излуче-
нии непрерывного и линейчатого спектров имеет как преимуще-
ства, так и недостатки. Одна из сложностей, связанных с этим,
обсуждалась при рассмотрении синхротронного излучения. Кро-
ме того, при исследовании спектров поглощения наличие большо-
го количества линий является иногда серьезным недостатком. Эти
проблемы, по-видимому, можно разрешить с помощью монохрома-
тического рентгеновского источника на основе лазерной плазмы.
3,3.2. Плазма электрического разряда
Импульсная дуговая плазма для получения рентгеновского излу-
чения обычно создается в высоковольтных (мегавольты) диодных
установках. Они также используются для создания релятивист-
ских электронных пучков, рассмотренных ранее. В этих установ-
ках либо инжектируется газ в диодную область, либо взрывается
тонкая проволочка. Затем происходит самопроизвольное сжатие
и разогрев наряду с испусканием большого количества рентгенов-
ского излучения. Получение лазерной генерации с использованием
таких установок описано в разд. 4.2.2 гл. 2.
Рентгеновский выход у этих установок значительно больше,
чем у лазерной плазмы. Например, на той же линии llA (см. при-
мер выше) мощность излучения составила 25 ГВт [16]. Однако раз-
мер плазмы электрического разряда обычно составляет несколько
миллиметров в диаметре и несколько сантиметров в длину. Следо-
вательно, объем плазмы равен по крайней мере 10"
2
см
3
, что в 10
3
раз больше, чем в случае лазерной плазмы. Это дает практически
ту же яркость ~ 10
26
(см. рис. 4).
Кроме того, длительность электрического разряда обычно со-
ставляет 10-100 не, что значительно больше, чем в случае лазерной
плазмы. Это является преимуществом для реализации многопро-
ходного усиления в резонаторе. Однако при регистрации движу-
щихся объектов длинный импульс является недостатком. Другой
недостаток таких установок заключается в ограниченном доступе
к источнику, который обычно находится в большой вакуумной ка-
хМере и окружен изолирующими материалами при высоком (MB)
напряжении. Это представляет особенно сложную проблему, ко-
гда требуется большое число измерений в различных направлениях
в отличие от лазер-плазменного источника, который может быть
расположен в любом месте, куда можно направить лазерный луч.