Лабораторный практикум. - Томск, ТУСУР, 2010. - 97 с.
Приведены четыре лабораторные работы, в основу которых положены
четыре наиболее распространенных и перспективных физических метода
контроля параметров технологических процессов производства
наногетероструктур и наногетероструктурных монолитных интегральных
схем – спектрометрическое оценивание толщины тонких пленок,
рамановская и ИК Фурье-спектрометрия, растровая электронная
микроскопия.
Для слушателей программы переподготовки в области промышленного производства наногетероструктурных монолитных интегральных схем СВЧ-диапазона и дискретных полупроводниковых приборов, а также для студентов специальностей 210104 «Микроэлектроника и твердотельная электроника» и 210600 «Нанотехнология».
Спектрометрическое оценивание толщины тонких пленок.
Рамановская спектроскопия.
Инфракрасная Фурье-спектроскопия.
Устройство и принцип работы растрового электронного микроскопа.
Для слушателей программы переподготовки в области промышленного производства наногетероструктурных монолитных интегральных схем СВЧ-диапазона и дискретных полупроводниковых приборов, а также для студентов специальностей 210104 «Микроэлектроника и твердотельная электроника» и 210600 «Нанотехнология».
Спектрометрическое оценивание толщины тонких пленок.
Рамановская спектроскопия.
Инфракрасная Фурье-спектроскопия.
Устройство и принцип работы растрового электронного микроскопа.