Автореферат диссертации на соискание учёной степени
кандидата физико-математических наук, Долгопрудный – 2011, 21с.
Специальность 01.04.07 – физика конденсированного состояния
Работа выполнена в государственном образовательном учреждении высшего профессионального образования Московский физико-технический институт (государственный университет).
Целью работы являлось создание методики создания тонких пленок двух и трехкомпонентных оксидов TixAl1-xOy посредством атомарно-слоевого осаждения в широком диапазоне концентраций, изучение их физико-химических, электрофизических свойств и биосовместимости.
Одной из наиболее перспективных технологий является метод атомарно-слоевого осаждения, основанный на последовательности самонасыщаемых химических реакций реактивов (прекурсоров) с поверхностью. Такой метод позволяет контролировать толщину нанесения пленки с точностью 0.3 - 0.5 монослоя. Подобный способ осаждения применяется для бинарных соединений, преимущественно оксидов, в частности, оксиды титана и алюминия. Диоксид титана находит свое применение в области биомедицинского материаловедения, как покрытие имплантатов, стимулирующее за счет своей кристаллической структуры рост костной ткани.
В тоже время для микроэлектроники TiO2 является уникальным диэлектриком с высокой диэлектрической постоянной ~100 . Однако, свойства диоксида титана, полученного методом -слоевого осаждения, для этих целей не изучены.
Специальность 01.04.07 – физика конденсированного состояния
Работа выполнена в государственном образовательном учреждении высшего профессионального образования Московский физико-технический институт (государственный университет).
Целью работы являлось создание методики создания тонких пленок двух и трехкомпонентных оксидов TixAl1-xOy посредством атомарно-слоевого осаждения в широком диапазоне концентраций, изучение их физико-химических, электрофизических свойств и биосовместимости.
Одной из наиболее перспективных технологий является метод атомарно-слоевого осаждения, основанный на последовательности самонасыщаемых химических реакций реактивов (прекурсоров) с поверхностью. Такой метод позволяет контролировать толщину нанесения пленки с точностью 0.3 - 0.5 монослоя. Подобный способ осаждения применяется для бинарных соединений, преимущественно оксидов, в частности, оксиды титана и алюминия. Диоксид титана находит свое применение в области биомедицинского материаловедения, как покрытие имплантатов, стимулирующее за счет своей кристаллической структуры рост костной ткани.
В тоже время для микроэлектроники TiO2 является уникальным диэлектриком с высокой диэлектрической постоянной ~100 . Однако, свойства диоксида титана, полученного методом -слоевого осаждения, для этих целей не изучены.