Томск: Томский государственный университет систем управления и
радиоэлектроники, Эль Контент, 2011. — 96 c.
Освещаются следующие разделы в области создания и исследования
объектов наноэлектроники: нанолитография, оптическая литография,
УФ-, КУФ-, ЭУФ- диапазоны, литография сканирующими электронными и
ионными пучками, оборудование для получения остросфокусированных
пучков электронов и ионов, наноимпринтинговая литография,
технология наноразмерных структур и методы исследования с помощью
сканирующей зондовой микроскопии (СЗМ), оборудование и методики
применения СЗМ для технологических целей, технологии изготовления
наноструктур с помощью сфокусированного ионного пучка
(FIB-технология), технология наноструктурирования,
самоформирующиеся 3D-наноструктуры для приборов наноэлектроники и
наномеханики. Для слушателей программы переподготовки в области
промышленного производства наногетероструктурных монолитных
интегральных схем СВЧ- диапазона и дискретных полупроводниковых
приборов