Огромные новые возможности открываются в области
конструирования граничных слоев покрытий [37, 74]. Речь
идет о нанотехнологии и атомной производственной
технологии, позволяющей целенаправленно наращиванием
создавать поверхностные мельчайшие структуры на атомном
уровне. Особое практическое значение эти технологии имеют
для таких областей, как передача и хранение информации,
функциональные атомные системы покрытия и основания
(подложки, субстрата), атомные механические компоненты и
системы, а также химические, биологические и
фармакологические системы, то есть тех областей, где
важную роль играет трехмерная атомная структура
поверхности. Структурирование граничного слоя дает новые
возможности технологическим путем формировать
трехмерную топографию, требуемые физические, химические
и др. свойства поверхности изделий [74].
Управление технологическими параметрами процесса
наращивания пленок позволяет не только регулировать их
толщину, но и управлять структурой и ориентацией
кристаллитов. На рис. 5 схематически представлен
граничный слой многослойного покрытия с заданной
ориентацией кристаллитов, примыкающих к его физической
поверхности. Это означает, что создавая ту или иную
текстуру, можно управлять не только свойствами
приповерхностного слоя, но и собственно поверхности. Как
следует из табл. 6, для анизотропных материалов возможно
управление значениями интенсивности съема, поверхностной
энергией, трещиностойкостью, коэффициентом трения в
достаточно широком диапазоне.
Все это показывает, что генеративный принцип
применительно к нанообласти обладает огромным
потенциалом и в этом плане эта технология органично
вписывается в понятие нанотехнологии. Области применения
чрезвычайно широки – от нанопленочных компонентов
микроэлектроники до биосовместимых имплантантов.