т.е. совместно использующие n- и p-переходы в транзисторах со
структурой «металл — окисел — полупроводник»).
Степень микроминиатюризации, размер кристалла ИС,
производительность и стоимость технологии напрямую опреде-
ляются типом литографии. До настоящего времени домини-
рующей оставалась оптическая литография, т.е. послойные ри-
сунки на фоторезисторе микросхем наносились световым лучом.
При этом ведущие компании, производящие микросхемы, реа-
лизовали кристаллы с размерами примерно 400—600 мм
2
для
процессоров (например, Pentium) и 200—400 мм
2
— для схем
памяти. Минимальный топологический размер (толщина линий)
при этом составлял 0,25 – 0,135 мкм. Для сравнения можно при-
вести такой пример. Толщина человеческого волоса составляет
примерно 100 мкм. Значит, при таком разрешении на толщине
100 мкм требуется вычерчивать более двухсот линий.
Дальнейшие успехи микроэлектроники связяны с электрон-
ной (лазерной), ионной и рентгеновской литографией. Это по-
зволило выйти на размеры 0,1; 0,08; 0,08 и даже 0,045 мкм. Вме-
сто ранее используемых алюминиевых проводников в микро-
схемах вначале начали применять медные соединения, а пере-
ход на 45 нм потребовал задействования совершенно новых ма-
териалов (high-k диэлектрики и металлические затворы).
Современные, четырехъядерные процессоры Penryn разра-
ботанные по технологии 45 нм включают около 820 млн. тран-
зисторов, которые размещаются на двух кристаллах площадью
107 мм
2
. Для сравнения, предыдущие четырехъядерные процес-
соры Intel Kentsfield имели 582 млн. транзисторов, при этом
площади кристаллов четырехъядерных процессоров, выпус-
кающихся по 65-нм нормам, составляют 143 мм
2
.
Такие высокие технологии порождают целый ряд проблем.
Микроскопическая толщина линий, сравнимая с диаметром мо-
лекул, требует высокой чистоты используемых и напыляемых
материалов, применения вакуумных установок и снижения ра-
бочих температур. Действительно, достаточно попадания мель-
чайшей пылинки при изготовлении микросхемы — и она попа-
дает в брак. Поэтому новые заводы по производству микросхем
представляют собой уникальное оборудование, размещаемое в
«чистых помещениях класса 1», микросхемы в которых транс-