261 Vatel, O. Kelvin probe force microscopy for potential distribution measure-
ment of semiconductor devices / O. Vatel, M. Tanimoto // J. Appl. Phys. –
1995. – Vol. 77, № 6. – P. 2358–2362.
262 Williams, C. C. Two-dimensional dopant profiling by scanning capacitance
microscopy / C.C. Williams // Annual Reviews of Materials Science. – 1999. –
Vol. 29. – P. 471-478.
263 Marchiando, J.F. Regression procedure for determining the dopant profile in
semiconductors from scanning capacitance microscopy data / J.F. Marchiando,
J.J. Kopanski // J. Appl. Phys. – 2002. – Vol. 92, № 10. – P. 5798–5809.
264 Фелдман, Л. Основы анализа поверхности и тонких пленок / Л. Фелдман,
Д. Майер; под ред. В.В. Белошвицкого. - М.: Мир, 1989. - 341 с.
265 Ормонт, Б.Ф. Введение в физическую химию и кристаллохимию полу-
проводников Б.Ф. Ормонт. - М. Высшая школа, 1973. - 655 с.
266 JCPDS-International center for diffraction data, PCPDFWIN, v. 2.00, 1998.
267 Палатник, Л.С. Основы пленочного полупроводникового материаловеде-
ния / Л.С. Палатник, В.К. Сорокин. - М.: Энергия, 1973. - 295 с.
268 Майселл, Л. Технология тонких пленок: справочник: в 2 т. / Л. Майссел,
Р. Глэнг. - М.: Советское радио, 1977. - Т. 1. - 686 с.
269 Brewster, D. Treatise on Optics / D. Brewster. – London: Longman, Rees,
Orme, Brown, Green and Taylor, 1831. – 108 p.
270 Rothen, A. The Ellipsometer, an Apparatus to Measure Thicknesses of Thin
Surface Films / A. Rothen // Review of Scientific Instruments. – 1945. – Vol.
16, № 2. – P. 26–30.
271 Bruggeman, D.A.G. Berechung verschieder physikalischer Konstanten von
heterogenen substranzen / D.A.G. Bruggeman // Annals of Physics (Leipzig). –
1935. – Vol. 24. – P. 636–679.
272 Optical characterization of CuIn
1-X
Ga
X
Se
2
alloy thin films by spectroscopic
ellipsometry / P.D. Paulson [et al] // J. Appl. Phys. - 2003. - Vol. 94,
№ 2. - P. 879-888.
273 Уханов, Ю.И. Оптические свойства полупроводников / Ю.И. Уханов; под
ред. В.М. Тучкевича. - М.: Наука, 1977. - 366 с.
274 Валеев, А.С. Определение оптических постоянных тонких слабопогло-
щающих слоев / A.C. Валеев // Оптика и спектроскопия. - 1963. - Т. XV,
вып. 4. - С. 500-511.
275 Minkov, А. Method for determing the optical constants of a thin film on a
transparent substrate / A. Minkov // J. Phys. D: Appl. Phys. - 1989. - Vol. 22. -
P. 199-205.
276 Павлов, Л.П. Методы измерения параметров полупроводниковых мате-
риалов / Л.П. Павлов. - М.: Высшая школа, 1987. – 239 с.
277 Meyer, D.L. Contact resistance: its measurement and relative importance to
power loss in a solar cell / D.L. Meyer, D.K. Shroder // IEEE Transaction elec-
tron devices. – 1984. – Vol. ED-31, № 5. - P. 6647-6653.
278 Кучис, Е.В. Методы исследования эффекта Холла / Е.В. Кучис. – М.:
Сов. Радио, 1974. - 328 с.