Пилипенко В.А. Быстрые термообработки в технологии СБИС

Мн.: Изд. центр БГУ., 2004 г., 531 стр., ISBN: 985-476-251-3 В монографии рассмотрены физические процессы, вызывающие нагрев кремниевых пластин в результате их облучения импульсами когерентного и некогерентного света. Приведены расчеты температурных полей и термических напряжений, возникающих в кремниевых пластинах при такой обработке, их влияние на параметры исходных кремниевых пластин и диэлектрических покрытий, а также даны характеристики основных видов оборудования, применяемого для БТО. Представлены результаты применения БТО в технологии СБИС, а именно для геттерирования быстродиффундирующих примесей, очистки поверхности, формиро­вания субмикронных зпитаксиальных слоев, отжига ионнолегированных слоев в моно- и поликристаллическом кремнии, планаризации поверхности, формирования силицидов, омических контактов. Кроме того, большое внимание уделяется моделиро­ванию и изучению параметров биполярных ИМС, сформированных с применением БТО. Предназначена для научных и инженерно-технических работников, занимающихся разработкой технологии создания СБИС с субмикронными размерами, а также преподавателей, студентов и аспирантов радиоэлектронного профиля.
Библиогр.: 386 назв. Табл.
34. Ил. 246.