Учебно-методическое пособие. — Минск: БГУИР, 2010. — 48 с.
Систематизированы физические методы исследования структуры,
фазового состава, электрофизических свойств материалов и
многослойных тонкопленочных структур, используемых в
микроэлектронике для создания интегральных микросхем (ИМС), а также
для тестового контроля микросхем. Изложены результаты по применению
методов контроля и анализа на различных этапах разработки изделий
электронной техники, показано их место в технологической цепочке
создания ИМС.
Методы контроля технологического процесса.
Электрофизические методы контроля.
Оптические методы контроля.
Методы элементного и структурно-морфологического анализа кристаллов интегральных микросхем.
Просвечивающая электронная микроскопия.
Растровая электронная микроскопия.
Оже-электронная спектроскопия.
Вторичная ионная масс-спектроскопия.
Электрофизические методы контроля.
Оптические методы контроля.
Методы элементного и структурно-морфологического анализа кристаллов интегральных микросхем.
Просвечивающая электронная микроскопия.
Растровая электронная микроскопия.
Оже-электронная спектроскопия.
Вторичная ионная масс-спектроскопия.