Ташкент: Фан, 2005. — 250 с.
В этой уникальной монографии рассматриваются: сведения о
поверхности и влиянии различных сред её свойства, металлургические
и межзёренные, электронные и физические границы в полупроводниках;
физико-технологические проблемы, влияние промежуточных слоев на
свойства р-n-переходов; принципы и способы получения резкого и
тонкого p-n-nepexoдa; структуры с запирающим р-n-переходом,
возможности улучшения температурных и фотоэлектрических свойств;
термоэлектрический и фотовольтаические эффекты в микрорежимных
полевых транзисторах; физические основы и принципы создания
усовершенствованных структур; двухбарьерные и многослойные
структуры с интегрированной изотипной и металло-полупроводниковой
областью; фотоэлектрические явления в трехбарьерной структуре;
технологические приемы создания структур для солнечных элементов с
поверхностным и объёмным микрорельефным р-n-переходами.
Представляет интерес не только для специалистов по физике
nолупроводников, но и для широкого круга лиц, интересующихся новыми
полупроводниковыми приборами, преподавателей вузов, студентов и
аспирантов.