Гудымович Е.Н., Гавриленко Н.А. Основы фотолитографии

Учебное пособие. — Томск: Томский университет, 2009. — 182 с. Изложены основы процессов фотолитографии для производства изделий электронной техники в строгой последовательности химических и физико-химических операций. Дан необходимый теоретический материал, описаны методики проведения практических работ по всему циклу фотолитографии и контроля качества полученного рисунка, представлен большой объем справочных данных. Используются современные методы исследования, в том числе методы оптимизации и планирования эксперимента.
Для студентов и аспирантов университетов и вузов электронного направления, а также специалистов, работающих в областях полупроводникового материаловедения, разработки и изготовления полупроводниковых приборов. Введение.
Теоретическая часть.
Фотолитография, основные положения и понятия. Организация производства.
Фоторезисты.
Особенности переноса изображения с фотошалона на подложку.
Экспериментальная часть.
Практические аспекты формирования изображения в слое Фоторезиста.
Перенос изображения с фоторезиста на подложку.
Организация безопасной работы.
Методическое обеспечение курса.
Заключение.
Литература.
Приложения:
Чистые помещения и их эксплуатация.
Источники оптического излучения.
Основные хромофорные группы и области их поглощения.
Таблицы справочных данных.