Учебное пособие. Моск. гос. ин-т электроники и
математики. М., 2006, 36с.
В пособии изложены физические основы процессов ионно-плазменного
нанесения тонких пленок. Рассмотрены разновидности процесса
ионно-плазменного и плазмохимического нанесения пленок. Кратко
рассмотрено ионно-лучевое осаждение металлических и алмазоподобных
углеродных пленок.
Пособие предназначено для студентов специальности 200100 по дисциплине Физические основы ионно-плазменной технологии.
Пособие предназначено для студентов специальности 200100 по дисциплине Физические основы ионно-плазменной технологии.