Пособие. — Минск: БГУИР, 2012. — 52 с.
Приводится описание четырех лабораторных работ, посвященных
моделированию элементов и технологических операций производства
полупроводниковых микросхем. Содержатся теоретические сведения и
практические рекомендации по их выполнению. В каждой работе
проводятся теоретические исследования с использованием программ
компьютерного моделирования.
Моделирование диффузионного легирования и термического окисления
кремния.
Моделирование ионного легирования.
Моделирование интегрального биполярного транзистора.
Моделирование интегральных полевых транзисторов.
Моделирование ионного легирования.
Моделирование интегрального биполярного транзистора.
Моделирование интегральных полевых транзисторов.