Файлы
Обратная связь
Для правообладателей
Найти
Презентация Технология нанесения наноструктурных покрытий ионно-плазменным методом
Файлы
Академическая и специальная литература
Наноматериалы и нанотехнологии
Технологии получения наноматериалов и наноструктур
Назад
Скачать
Подождите немного. Документ загружается.
Ионно
-
плаз
менные
и
термические
источники
Термический
испаритель
Вакуумно
-
дугов
ой
испаритель
Магнетрон
6
1
2
3
5
4
5
1
2
3
4
6
4
N
N
S
1
2
3
5
Конструкция
технологической
установки
1, 2
–
магнетроны
с
разли
чными
материал
ами
като
дов
, 3
–
ионный
источн
ик
для
предваритель
ной
очистк
и
подложки
, 4
–
резистив
ный
нагревател
ь
, 5
–
карусел
ьный
механи
зм
вращения
подложки
, 6
–
вакуумная
камера
, 7
–
дверца
для
загрузки
установки
, 8
–
натекател
ь
рабочего
газа
.
t
0
1
2
3
4
5
7
6
8
Заключение
Для
получени
е
покрытий
использует
ся
традицион
ное
вакуумное
оборудовани
я
,
применяемое
в
микроэл
ектронике
.
Для
генерации
плазмы
лучше
всего
подходят
магнетронные
источник
и
и
вакуумно
-
дуговые
испари
тели
из
-
за
более
высокой
энергии
осаждающих
ся
частиц
.
Для
получени
я
нанострук
турных
покрытий
исполь
зуются
:
катоды
с
леги
рующими
добавками
(
Ti
-
Al
-
Si
,
Ti
-
Si
),
вращение
подложки
для
получения
многосл
ойных
покрытий
,
электрическ
ое
смещени
е
подложки
для
получения
ионной
бомбардировки
растуще
й
пленки
.
‹
1
2
›
