10
ЛЕКЦИЯ 2.
ПОКОЛЕНИЯ ЭЛЕКТРОННОЙ АППАРАТУРЫ И ЕЁ ТЕХНОЛОГИЙ
Поколения электронной аппаратуры.
Электронная аппаратура условно делится на поколения:
1. (20÷50 г.г. XX в.) – электровакуумные приборы, электромеханическая
коммутация, объемный модуль, значительные габариты, вес, энергоемкость,
трудоемкость изготовления, низкая надежность и плотность монтажа;
2. (50÷60 г.г. XX в.) – дискретные ППП, модуль из объемных ЭРЭ, ПП,
межблочный монтаж жгутами, плотность монтажа повышается в 10 раз и
достигла 15÷20 соед./
см
2
, групповая пайка, в 10 раз возросла
производительность сборки, объем функциональных ячеек снизился в 15÷25
раз, а энергоемкость в 10÷20 раз;
3. (70÷80 г.г. XX в.) – интегральные элементы и типовые элементы
сборки (ТЭС), механизация установки ИМС на ПП, плотность установки ≤
500 элем./см
2
. С 1975 года ЦИМС на основе МОП-структур, объем блоков
сократился в 20 раз, потребляемая мощность – в 15 раз, производительность
труда возросла в 3÷5 раз относительно второго поколения. Здесь нашли
применение многослойные (МПП), а внутриблочный монтаж –
коммутационные (КПП) и гибридные печатные кабели (ГПК), автоматизация
производства при накрутке, степень интеграции в ИМС – 10
5
элементов;
4. (80-е г.г. XX в.) – микроблоки с микросборками частного
применения, бескорпусные ИМС, БИС и СБИС, акусто- и оптоволоконные
приборы, безвыводные поверхностно-монтируемые ЭРЭ и ИМС. ТЭС –
основная конструктивная единица, по методам поверхностного монтажа,
внутриблочный монтаж полосовыми линиями (ПЛ) и ГПК. Плотность
монтажа возросла в 20 раз, энергоемкость снизилась в 50 раз
,
производительность труда возросла в 40÷50 раз по сравнению со вторым
поколением. В едином технологическом цикле синтезируются память (ЗУ) и
схемы управления ЗУ – микропроцессоры. Быстродействие электронных
приборов по сравнению со вторым поколением возросло на 2 порядка;