38
прямолинейный участок характеристической кривой. Подобная ФП
характеризует и методы фотоэлектрического сканирования.
Далее ФРТ используется для оценки качества изображения либо для
определения одного из известных критериев оценки качества.
МЕТОД ИЗОФОТОМЕТРИИ
Для устранения указанных недостатков традиционных методов
определения ФРТ разработаны изофотометрические методы
экспериментального анализа пятна рассеяния, сформированного при работе
реальной (изготовленной) оптической системы. Эти методы позволяют
регистрировать перепады освещенности в пятне рассеяния в диапазоне более
пяти порядков (10
5
), строить кривые распределения освещенности в любом
сочетании, а также топограмму распределения освещенности, вычислять ФКЭ
(концентрацию энергии в пятне) и ФПМ. Методы были весьма эффективно
использованы при контроле 6-метрового зеркала крупнейшего в мире телескопа
БТА и ряда других крупных астрономических систем [4, 24]. Эти методы
нашли применение для контроля (по функции концентрации энергии в пятне
рассеяния) оптических материалов, проведения контроля оптики прецизионных
микроскопов, оптических систем для фокусировки лазерных пучков,
объективов для передающей телевизионной аппаратуры, для микролитографии
и других различных оптических систем.
Изобразим в логарифмическом масштабе распределение относительной
освещенности, полученное от объекта (рис. 13). Наложим на изображенную
совокупность распределений шкалу равномерно и достаточно часто
расположенных фотометрических сечений. Из построения видно, что
независимо от общего уровня освещенности в исследуемом распределении
само распределение может быть отображено одинаково детально
совокупностью расположенных по логарифмическому закону фотометрических
сечений.
Построим характеристическую кривую высококонтрастного материала в
виде функции
D
П
=f(lgE) при H=Et=const, где t - время.
В этих координатных осях каждому времени экспозиции соответствует
своя характеристическая кривая, смещенная вдоль оси lgЕ.
Равномерная шкала логарифмов времени экспозиции позволяет
последовательно "наводиться" характеристической кривой высококонтрастного
фотоматериала на равномерный ряд фотометрических сечений, расположенных
по логарифмическому закону. Таким образом, исследуемое распределение
освещенности отображается в виде совокупности равномерно расположенных
сечений независимо от общего (среднего) уровня освещенности, с одинаковой
степенью подробности передачи фотометрической структуры.