Валуев В.П. и др. Вакуумно-дуговой разряд на интегрально холодном катоде

Статья. Опубликована в журнале Инструмент и технологии, №03, 2010, с. 36 - 49 Настоящее исследование металлического плазменного потока, генерируемого в вакуумно-дуговом разряде, было проведено на базе плазменного источника протяженной конструкции. Однако движение катодного пятна по рабочей поверхности испарителя ограниченных размеров не дает полной картины развития дугового разряда. Авторы предложили испаритель протяженной конструкции, работающий в импульсном режиме и образующий направленный ленточный поток плазмы. Исследование позволило получить новую информацию о динамике развития катодных пятен и времени образования установившегося дугового разряда, что обеспечивает получение плазменных покрытий с заданными структурой и составом.