Пер. с англ. М., Мир, 1990, 639 с.
Монография американского физика Аризонского университета посвящена важному направлению физической электроники - электронной и ионной оптике, основу которой составляют процессы формирования и движения пучковых заряженных частиц в электрических и магнитных полях. Автор является одним из ведущих в мире специалистов в этой области. Особенно большой известностью пользуются его научные труды по разработке методов автоматизированного проектирования, синтеза и оптимизации фокусирующих устройств электронной и ионной оптики.
Электронная и ионная оптика находит все более широкое применение при создании ускорителей элементарных частиц, электронно-лучевых приборов, спектрометров, установок для субмикроиной литографии. Математический аппарат ориентирован на моделирование процессов на ЭВМ. Принципы моделирования основаны на аналогии между световой геометрической оптикой и законами движения заряженных частиц в электростатическом и магнитном полях.
Для научных работников, инженеров и аспирантов, специализирующихся в области электронно-лучевых приборов, ускорителей элементарных частиц и полупроводниковой микролитографии.
Монография американского физика Аризонского университета посвящена важному направлению физической электроники - электронной и ионной оптике, основу которой составляют процессы формирования и движения пучковых заряженных частиц в электрических и магнитных полях. Автор является одним из ведущих в мире специалистов в этой области. Особенно большой известностью пользуются его научные труды по разработке методов автоматизированного проектирования, синтеза и оптимизации фокусирующих устройств электронной и ионной оптики.
Электронная и ионная оптика находит все более широкое применение при создании ускорителей элементарных частиц, электронно-лучевых приборов, спектрометров, установок для субмикроиной литографии. Математический аппарат ориентирован на моделирование процессов на ЭВМ. Принципы моделирования основаны на аналогии между световой геометрической оптикой и законами движения заряженных частиц в электростатическом и магнитном полях.
Для научных работников, инженеров и аспирантов, специализирующихся в области электронно-лучевых приборов, ускорителей элементарных частиц и полупроводниковой микролитографии.