Авторы: А. Е. Гитлевич, В. В. Михайлов, Н. Я. Парканский, В. М.
Ревуцкий - Кишинев: Штиинца, 1985. - 198с.
Книга посвящена физико-технологическим вопросам процесса электроискрового легирования (ЭИЛ) металлических поверхностей. Рассматриваются основные физические явления на электродах и в межэлектродном промежутке, сопровождающие процессы формирования поверхностных слоев на катоде при импульсных разрядах в газовой среде. Анализируются влияние различных факторов на процесс полярного переноса материала на катод и формирование на нем поверхностного слоя с определенными характеристиками. Подробно описываются физико-химические превращения, протекающие на поверхности катода при воздействии импкльсных разрядов. Изучаются технологические особенности электроискрового легирования деталей из различных материалов и оборудование, используемое в промышленности. Монография адресована специалистам, работающим в области электрофизических методов обработки материалов, машиностроения, а также может быть полезна для преподавателей и студентов вузов.
Книга посвящена физико-технологическим вопросам процесса электроискрового легирования (ЭИЛ) металлических поверхностей. Рассматриваются основные физические явления на электродах и в межэлектродном промежутке, сопровождающие процессы формирования поверхностных слоев на катоде при импульсных разрядах в газовой среде. Анализируются влияние различных факторов на процесс полярного переноса материала на катод и формирование на нем поверхностного слоя с определенными характеристиками. Подробно описываются физико-химические превращения, протекающие на поверхности катода при воздействии импкльсных разрядов. Изучаются технологические особенности электроискрового легирования деталей из различных материалов и оборудование, используемое в промышленности. Монография адресована специалистам, работающим в области электрофизических методов обработки материалов, машиностроения, а также может быть полезна для преподавателей и студентов вузов.