Литературный перевод. Phase transformation of graphite irradiated
by high-intensity pulsed ion beams. Elseiver. Applied Surface
Science 253 (2007) 5425–5430
Изучалась микроструктура и морфология графита облученного мощным ионным пучком (МИП) с различной плотностью тока 200, 350 и 1500 после одного и пяти импульсов. Преобразование графита в алмазоподобную структуру (АПС) при облучении МИП было подтверждено Рамановской спектроскопией где произошло типичное расширение ассиметричных пиков появившихся в диапазоне длин волн 1100-1700 cм-1 . Формирование АПС в облученном графите зависит от параметров МИП и наилучшие результаты получены при плотности тока 350 A/cм2 и пяти импульсах. Математическое моделирование процесса абляции, позволило исследовать механиз трансформации графита облученного МИП в АПС. Расчеты показали температурный профиль при облучении с плотностью тока 350 A/cм2 практически идентичный облучению при 200 A/cм2 , однако с увеличением зоны термического влияния по сравнению с 1500 A/cм2 . Кроме того абляция при 350 A/cм2 – 0,8 мкм, что выше чем 0,4 мкм при 200 A/cм2 и намного ниже чем 8,4 мкм при 1500 A/cм2 соответственно. В результате эксперимента и математического моделирования показано, что при определенной температуре и повторяющемся давлении созданном в поверхностном слое графита облученного МИП фазовая трансформация происходит легче.
Изучалась микроструктура и морфология графита облученного мощным ионным пучком (МИП) с различной плотностью тока 200, 350 и 1500 после одного и пяти импульсов. Преобразование графита в алмазоподобную структуру (АПС) при облучении МИП было подтверждено Рамановской спектроскопией где произошло типичное расширение ассиметричных пиков появившихся в диапазоне длин волн 1100-1700 cм-1 . Формирование АПС в облученном графите зависит от параметров МИП и наилучшие результаты получены при плотности тока 350 A/cм2 и пяти импульсах. Математическое моделирование процесса абляции, позволило исследовать механиз трансформации графита облученного МИП в АПС. Расчеты показали температурный профиль при облучении с плотностью тока 350 A/cм2 практически идентичный облучению при 200 A/cм2 , однако с увеличением зоны термического влияния по сравнению с 1500 A/cм2 . Кроме того абляция при 350 A/cм2 – 0,8 мкм, что выше чем 0,4 мкм при 200 A/cм2 и намного ниже чем 8,4 мкм при 1500 A/cм2 соответственно. В результате эксперимента и математического моделирования показано, что при определенной температуре и повторяющемся давлении созданном в поверхностном слое графита облученного МИП фазовая трансформация происходит легче.