Статья. Опубликована в Инженерный журнал №8, 2005, стр. 42-45
Приводятся общие сведения о последних разработках ученых МГТУ "Станкин" в области технологий и оборудования для вакуумно-плазменной обработки. Подробно описан принцип действия и конструктивные особенности установок для комбинированной вакуумно-плазменной обработки с использованием нового источника, генерирующего в больших вакуумных объемах высокоионизированную плазму различного состава, рассмотрены вопросы нанесения покрытий на различные изделия с использованием управляемых планарных электродуговых испарителей и источников пучков быстрых нейтральных молекул. Представлены сведения о промышленной апробации разработок и достигнутых эффектах.
Приводятся общие сведения о последних разработках ученых МГТУ "Станкин" в области технологий и оборудования для вакуумно-плазменной обработки. Подробно описан принцип действия и конструктивные особенности установок для комбинированной вакуумно-плазменной обработки с использованием нового источника, генерирующего в больших вакуумных объемах высокоионизированную плазму различного состава, рассмотрены вопросы нанесения покрытий на различные изделия с использованием управляемых планарных электродуговых испарителей и источников пучков быстрых нейтральных молекул. Представлены сведения о промышленной апробации разработок и достигнутых эффектах.