Учебное пособие. М.: Изд-во МГТУ им. Н. Э. Баумана, 1999. - 36 с.,
ил.
Изложены методические подходы к расчетам электродугового источника
плазмы для процессов нанесения покрытий в вакууме. Описаны основные
физические особенности вакуумной дуги с катодными пятнами, ее
генерационные характеристики. Проведем анализ стадий рабочего
процесса - откачки, генерации, транспортировки плазмы и
взаимодействия ионов с поверхностью изделия при различных режимах
ионной обработки. Даны рекомендации по расчетам электродугового
источника плазмы и его конструктивных параметров для ·решения
конкретной технической задачи.
Для студентов, обучающихся по специальности "Плазменные энергетические установки", а также для аспирантов, инженерно-технических и научных работников, занимающихся изучением применения ионно-плазменных технологических установок в различных областях техники.
Для студентов, обучающихся по специальности "Плазменные энергетические установки", а также для аспирантов, инженерно-технических и научных работников, занимающихся изучением применения ионно-плазменных технологических установок в различных областях техники.