Типография МИФИ, 1987 г. - 75 стр. Методическое указание, учебное
пособие.
В учебном пособии излагаются физические механизмы и основные
закономерности процессов, приводящих к изменению состава, структуры
и эрозии поверхности при ионном и плазменном воздействии.
На основе последних достижений науки и техники и современных концепций анализируемых явлений описываются плазменные и ионные методы направленного изменения структуры, состава, рельефа и физико-химических свойств поверхности.
При составлении пособие привлечена информация из многих тематических журналов и сборников, обзоров и монографий, которые практически недоступна студентам. Содержание предлагаемого пособие полностью соответствует программе курса "Вакуумные технологии плазменных термоядерных установок".
В то же время в существующей учебной литературе явления, описываемые в пособии практически не рассматривается.
Пособие будет полезно студентам, изучающим физику, технику и технологии термоядерных реакторов , радиационную физику поверхности, методы ионной плазменной технологии, в частности технологию в микроэлектроники. Глава 1. Прохождение атомных частиц через твёрдые тела и формирование элементарных дефектов.
Глава 2. Распыление при бомбардировке атомарными частицами.
Глава 3. Блистеринг.
Глава 4. Кристаллические новообразования на поверхности твёрдых тел при ионной бомбардировке.
Глава 5. Изменение состава структуры и рельефа поверхности при ионной бомбардировке.
Глава 6. Особенности разрушения поверхности вакуумной камеры термоядерной установки.
На основе последних достижений науки и техники и современных концепций анализируемых явлений описываются плазменные и ионные методы направленного изменения структуры, состава, рельефа и физико-химических свойств поверхности.
При составлении пособие привлечена информация из многих тематических журналов и сборников, обзоров и монографий, которые практически недоступна студентам. Содержание предлагаемого пособие полностью соответствует программе курса "Вакуумные технологии плазменных термоядерных установок".
В то же время в существующей учебной литературе явления, описываемые в пособии практически не рассматривается.
Пособие будет полезно студентам, изучающим физику, технику и технологии термоядерных реакторов , радиационную физику поверхности, методы ионной плазменной технологии, в частности технологию в микроэлектроники. Глава 1. Прохождение атомных частиц через твёрдые тела и формирование элементарных дефектов.
Глава 2. Распыление при бомбардировке атомарными частицами.
Глава 3. Блистеринг.
Глава 4. Кристаллические новообразования на поверхности твёрдых тел при ионной бомбардировке.
Глава 5. Изменение состава структуры и рельефа поверхности при ионной бомбардировке.
Глава 6. Особенности разрушения поверхности вакуумной камеры термоядерной установки.