М.: Машиностроение, 1979. - 224 с.
Изложены теоретические основы и сущность нового, разработанного автором, циркуляционного метода диффузионного насыщения металлов одним или несколькими элементами. Приведены схемы и конструкции циркуляционных установок для осуществления различных процессов диффузионного насыщения при косвенном нагреве деталей и ионной бомбардировке в плазме тлеющего разряда. Даны результаты исследования циркуляционного метода. Показано влияние основных технологических параметров на процесс диффузионного насыщения и возможность управления процессом. Рассмотрены электрофизические способы интенсификации химико-термической обработки металлов: ионное азотирование и силицирование, ионная цементация и металлизация, электроискровое поверхностное легирование и получение покрытий в высокочастотном электрическом поле.
Изложены теоретические основы и сущность нового, разработанного автором, циркуляционного метода диффузионного насыщения металлов одним или несколькими элементами. Приведены схемы и конструкции циркуляционных установок для осуществления различных процессов диффузионного насыщения при косвенном нагреве деталей и ионной бомбардировке в плазме тлеющего разряда. Даны результаты исследования циркуляционного метода. Показано влияние основных технологических параметров на процесс диффузионного насыщения и возможность управления процессом. Рассмотрены электрофизические способы интенсификации химико-термической обработки металлов: ионное азотирование и силицирование, ионная цементация и металлизация, электроискровое поверхностное легирование и получение покрытий в высокочастотном электрическом поле.